*MYCRO光刻機，包含EM-5026M1， EM-5086， EM-5026B，EM-5026AM四個型號，是的光刻系統，廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域。并且該系列的光刻機已經被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，作為他們光刻系統的*；其優(yōu)秀的技術、*的工藝和良好的服務，贏得了廣大用戶的青睞。
紫外曝光機作為光刻系統，zui重要的技術在于以下兩個方面：掩模-晶圓片對準，以及將掩模版上的圖案復制到晶圓片上，為下一步進行可是或者離子注入工序做好準備。
MYCRO紫外曝光機/光刻系統的曝光方式，是采用可調節(jié)壓力的接觸式曝光，有效降低了光刻膠對掩模版的污染以及掩模版的磨損，從而提高掩模版的壽命。因此，MYCRO紫外曝光機/光刻系統以其*的性價比而讓人印象深刻。
曝光機/光刻系統的組件主要包含：
紫外光源構造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
監(jiān)視器
掩膜夾具
紫外光源透鏡
紫外光源鏡片
紫外燈電源系統
操作控制器
350W紫外燈
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