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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| SCE-14,18,24,30等離子刻蝕機/系統是在兩塊平面電極之間進行蝕刻，與感應耦合等離子體（ICP）不同，是通過高壓線圈產生的。MYCRO的SCE系列鋁制反應艙等離子體系統是該領域的產品。我們的等離子刻蝕機無論是做研發還是大規模生產，總有一款SCE系列系統可以滿足需要。就設備設計、質量或是交貨靈活性、經濟型等離子體系統等方面而言，沒有公司與之相提并論。 SCE-AL等離子刻蝕系統可以在以下四種平板等離子體處理模式下運行： 直接模式—基片可以直接放置在電極支架或是底座支架上，取得zui大的平板蝕刻處理效果。 定向模式—需要非等向性蝕刻（anisotropic etching）的基片可以放置在特制的平板支架上。 下游模式—基片可以放置在不帶電支架上，以便取得微小的等離子體效果。 定制模式—當平板蝕刻配置不過理想時，特制的電極配置可以提供。 兩種反映系統： 鋁制反應艙系統可以配置，用于定向和下游等離子體處理模式。 石英反應艙系統可以配置，用于平板定向要非等向性和感應耦合等離子體（ICP）定向等離子體的發生。 鋁質腔體等離子刻蝕系統Aluminum Chamber Plasma Systems SCE 14鋁質腔體等離子系統 長寬高356毫米的立方體腔體 外形尺寸559毫米 x 686毫米 x 915毫米 （w,d,h） SCE 18鋁質腔體等離子系統 長寬高457毫米的立方體腔體 外形尺寸 711毫米x 711毫米x 1651毫米（w,d,h） SCE 24鋁質腔體等離子系統 長寬高610毫米的立方體腔體 外形尺寸 864毫米 x 813毫米 x 1829毫米 （w,d,h） SCE30鋁質腔體等離子系統 長寬高762毫米的立方體腔體 外形尺寸915毫米x 915毫米x 1829毫米（w,d,h） 清洗：等離子體處理對于分子級的基片預清洗是非常必要的的。無論濕法清洗的步驟有多少，在基片盒粘合劑、涂料、其它材料的鍵合之間還是有殘留物。 通過去除可能會截留的污染物，分子級的等離子體清洗可促進鍵合。等離子體處理，配合正確的氣體混合比例，通過增加表面機能和減小表面張力而促進基片的親水性。膠黏劑均勻地覆蓋在基片表面，而無空隙。 案例包括飛機和汽車領域，*使用的水下電纜，海上鉆井平臺等磨損治理。 需要更詳細的鋁質腔體等離子刻蝕機/系統信息 請與邁可諾技術有限公司 中國營銷服務中心 （北京）（上海） （廣州）（武漢） : sales@mycro.com.cn Website: http://www.mycrohk。。ｃｏｍ |
