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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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邁可諾技術(shù)有限公司

聯(lián)系人：: 葉盛

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[供應(yīng)]MPEM-1600-掩膜曝光光刻機Mask Aligner MPEM-1600

貨物所在地：: 北京北京市
更新時間：: 2024-07-01 13:50:32
有效期：: 2024年7月1日--2024年12月29日
已獲點擊：: 144

【簡單介紹】MYCRO*荷蘭光刻機（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。

【詳細說明】

一、產(chǎn)品簡介：

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器，在晶片的頂側(cè)和底側(cè)包括對準光學(xué)系統(tǒng)，因此可以與頂側(cè)對準對頂側(cè)表面進行接觸，軟接觸和接近圖案化。晶片底面上的圖形。掩模和晶圓的精確對準可能是通過高分辨率光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)的，該光學(xué)系統(tǒng)的頂部和底部均安裝了對稱排列的10X物鏡。由于可以調(diào)成對的物鏡之間的間隔，所以不規(guī)則形成的晶片也可以自由地對準。

		MPEM-1600	MPEM-12M	MPEM-16M
光罩尺寸		多5英寸	多7英寸	多9英寸
晶圓尺寸		高達4英寸（無定形）	高達6英寸（無定形）	高達8英寸（無定形）
面罩架滑動		手動卡盤
面具運動		X =±3毫米，Y =±3毫米
接觸	方法	軟接觸/硬接觸/接近暴露
	照明	250W超高壓蒸氣汞燈	500W超高壓蒸氣汞燈
	照明不規(guī)則	±5％
	有效接觸面積	直徑100毫米	直徑150毫米	直徑200毫米
	解析度	3mµ L / S
對準	方法	目鏡觀察（精神領(lǐng)域系統(tǒng)）		9英寸視頻監(jiān)控系統(tǒng)
	物鏡	10X兩對（上/下）
	目鏡	NWF 10X（一對）		--
	總放大倍率	100倍		200倍
	物鏡分離	15?90毫米	80?140毫米	55?184毫米
	聚焦單元	手冊
	對準范圍	X，Y =±4mmθ =±22.5°	X，Y =±4mmθ =±5°
	對齊間隙	09?99微米
	對準精度	小于±5mm
實用工具	主機電源	100-220V AC，50 / 60Hz，15A（600W）
	水銀燈電源	100-220V AC，50 / 60Hz，15A（550W）	100-220V，50 / 60Hz，15A（1,100W）
	氮氣	0.4?0.5兆帕	100-220V AC，50 / 60Hz，15A（1,100W）
	真空壓力	小于21.3kPa （從大氣壓到-80kPa ）
尺寸（主機）		750（寬）x 820（深）x 1,700（高）mm	940（寬）x 860（深）x 1,670（高）mm	1,200（寬）x 1,090（深）x 1,800（高）mm
凈重		大約 450公斤	大約 550公斤	大約 700公斤
選件		NWF 15X目鏡（一對） 9英寸電視監(jiān)視器系統(tǒng)（黑白）		--

MPEM-1600	MPEM-12M	MPEM-16M
（適用于直徑大為4英寸的晶片）	（適用于直徑大為6英寸的晶片）	（適用于直徑大為8英寸的晶片)

*除上述以外，還提供電動MPEM-2000 / 4000型和全自動MPEM-8M / 12M型。

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