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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

光學(xué)試劑

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
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    個(gè)化:
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    http://www.weixunsd.com/st119375/
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    [供應(yīng)]MEMA-800-掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner MEMA-800
    MEMA-800-掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner MEMA-800
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2024-07-01 13:50:32
    有效期:
    2024年7月1日--2024年12月29日
    已獲點(diǎn)擊:
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    【簡(jiǎn)單介紹】MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國(guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開發(fā)操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學(xué)/高速通信組件中。

    二、技術(shù)參數(shù):

    1、目標(biāo)分離15?75毫米

    2、總放大倍率100倍

    3、觀察照明器紅色LED(λ= 633 nm)

    4、X,Y平臺(tái)移動(dòng)范圍±5毫米

    5、θ調(diào)整±5°

    6、主體電源和水銀燈交流100V 50 / 60Hz 15A

    7、真空源低于21.3 Kpa(大氣壓為-80 Kpa)

    8、鏡片:積分鏡

    9、汞燈:250W超高壓蒸汽汞燈

    10、有效接觸面積:大φ100毫米

    11、強(qiáng)度分布:±5%以下

    12、照度20 mW / cm 2  (405納米)

    13、曝光時(shí)間控制數(shù)字計(jì)時(shí)器和旋轉(zhuǎn)螺線管

    14、汞燈照明裝置交流110V

     

    三、產(chǎn)品特點(diǎn):

    經(jīng)濟(jì),緊湊和高級(jí)性能
    在視場(chǎng)中查看兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的融合圖像。
    用于曝光的積分鏡。
    LED照明器



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