邁可諾技術有限公司
主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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專為去除SEM & TEM樣品的碳氫污染而設計。*的雙清洗模式(immersion和downstream)能夠處理各種不同的樣品,從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品,如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網上的TEM樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準SEM樣品托。
特點:
1. 系統具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動表面處理、光刻膠蝕刻。遠程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化
2. 13.56MHz高頻射頻發生器
3. 7英寸觸摸屏控制界面,全自動操作
4. 標配75W版本,可選150W版本
5. 標配2路氣體輸入,可選第三路氣體輸入
6. 可選與FEI、JEOL、HITACHI等TEM樣品桿配套的適配器
7. AC輸入:通用(110~230V, 50/60Hz)
三、技術參數
1、控制系統
1)操作界面:7英寸電阻觸摸屏操作界面,支持多種工作方式。
2)程序控制:可編程,總共有20個程序,每個程序有3個清潔步驟
2、反應腔體
1)腔體材質:圓柱形石英玻璃艙。
2)腔體尺寸:內徑110毫米,外徑120毫米,深度280毫米,壁厚:5毫米。
3)前觀測窗:前方開口,5毫米厚石英玻璃可視窗口,可觀測內腔等離子狀態,并帶有防真空泄漏和避免高壓的聯鎖裝置,有效保護操作的安全性;
3、射頻電源
1)射頻頻率:13.56MHz
2)射頻功率:標配0~75W;可選配0~150W。從0瓦到150瓦之間以1瓦間距連續可調,自動阻抗匹配。
3)射頻輸出可以工作在脈沖方式,脈沖比可以從1/255調到255/255(連續輸出)。
4、等離子源
1)等離子強度探測器實時測量等離子源強度。
2)電阻耦合電離方式。
3)外置電極設計,高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。
5、氣體控制
1)氣路控制:標配一路MFC;可選配三路MFC;
2)質量流量計可以在0~100sccm之間控制氣體流量;
3)一路(Venting and purging)氣體入口用來快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。
4)自動放氣流程控制可以保護真空泵不受影響。
5)高性能氣壓計可以測量1e-4 Torr到大氣壓之間的氣壓。
6)6mm氣體接口。
6、真空系統
1)KF25法蘭接口用來連接真空泵。
2)真空要求:抽速:>1.7m3/h;
3)低氣壓:<=200mTorr.