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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

顯微鏡檢測系統(tǒng)

程序剪切儀

光學(xué)試劑

韓國波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://www.weixunsd.com/st119375/
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    [供應(yīng)]FR-Scanner-掃描型光學(xué)膜厚儀
    FR-Scanner-掃描型光學(xué)膜厚儀
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2024-10-25 09:23:55
    有效期:
    2024年10月25日--2025年4月26日
    已獲點(diǎn)擊:
    171
    【簡單介紹】品牌:希臘ThetaMetrisis
    名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀
    干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關(guān)的其他物理量。
    【詳細(xì)說明】

    FR-Scanner 掃描型光學(xué)膜厚儀主要由以下系統(tǒng)組成:

    A)   光學(xué)光源裝置

    小型低功率混合式光源

    本系統(tǒng)混合了白熾燈和LED燈,終形成光譜范圍360nm- 1100nm;該光源系統(tǒng)通過微處理控制,光源平均壽命逾10000小時;

    集成小型光譜儀,光譜范圍360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 16 A/D 分辨精度.

    集成式反射探針,6組透射光探針(200um),1組反射光探針,探針嵌入光源頭,可修整位置,確保探針無彎曲操作;

    光源功率:3W;

    B)    超快掃描系統(tǒng),平面坐標(biāo)內(nèi),可進(jìn)行625次測量/分鐘 (8’’ wafer) 500次測量/分鐘(300mm wafer). 全速掃描時,掃描儀的功率消耗不超過200W

    樣品處理臺:大樣品處理尺寸可達(dá)300mm. 可滿足所有半導(dǎo)體工藝要求的晶圓尺寸。手動調(diào)節(jié)測量高度可達(dá)25mm;配有USB通訊接口,功率:100 - 230V 115W.

    C) FR-Monitor膜厚測試軟件系統(tǒng),

    可精確計(jì)算如下參數(shù):

    1)單一或堆積膜層的厚度;

    2)靜態(tài)或動態(tài)模式下,單一膜層的折射率;本軟件包含了類型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫,可以有效地協(xié)助用戶進(jìn)行線下或者在線測試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率,透射率和反射率的測量,還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜,一次使用*,即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結(jié)果分析使用。

    D) 參考樣片:

    a) 經(jīng)校準(zhǔn)過的反射標(biāo)準(zhǔn)硅片;

    b) 經(jīng)校準(zhǔn)過的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片;

    E) 附件

    可定制適用于半導(dǎo)體工藝的任何尺寸的晶圓片(2, 3, 4, 5, 6, 200mm, 300mm)



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