邁可諾技術有限公司
主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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Ossila紫外臭氧清洗機
應用工藝:
•改善表面親水性
•表面清洗
•準備薄膜沉積
•表面處理
•紫外固化
•表面滅菌消毒
•去除表面單分子膜
•表面氧化
•清洗AFM / STM探針
•清洗光學元件
可清洗的基材示例:
•石英
•硅
•氧化硅
•氮化硅
•金
•鎳
•鋁
•砷化鎵
•礬土
•玻璃
•不銹鋼
可去除的污染物示例:
•光刻膠
•樹脂
•人體皮膚油脂
•清洗溶劑的殘留物
•塑料/硅片表面油漬
•助焊劑
產品特點:
•成本低;
•120x120mm樣品臺;
•zui大處理樣品高度為14mm;
•抽屜式樣品臺,簡單方便;
•樣品臺自安全聯鎖,防止對人身傷害;
•LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;
•60分鐘計時器;
•高強度紫外線燈源;
•可控溫的樣品臺;
•樣品清洗無需溶劑;
•超凈表面。
產品參數:
紫外燈類型 | 合成石英紫外燈 |
紫外燈主要波長 | 185 nm 和 254 nm |
UV燈管尺寸 | 100 mm x 100 mm |
UV燈電源 | 4000 V, 30 mA |
UV燈使用壽命 | T80(2000小時); 8 - 10年的標準日常使用 |
適用電壓 | 230 V, 0.6 A , 50 Hz // opt. ( 110 V, 1.2 A, 60 Hz ) |
zui大運行時間 | 59分59秒 |
安全特點 | 安全聯鎖,高溫報警,高溫斷電 |
托盤尺寸 | 120 mm x 120 mm |
樣品zui大尺寸 | 100 mm x 100 mm |
總尺寸 | 寬 204 mm,高 227 mm,長 300 mm |
下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響,以改善表面親水性。
水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上,經過紫外臭氧清洗處理前(左圖)和處理后(右圖)的效果對比。