邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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AT-400原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹:原子層沉積(Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒āT訉映练e與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過(guò)程中,新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的,這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。 產(chǎn)品型號(hào):AT-400 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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FR-Basic UV/NIR-HR膜厚儀 簡(jiǎn)單介紹:品牌:希臘ThetaMetrisis 名詞:膜厚儀 膜厚儀、測(cè)厚儀、干涉儀、厚度測(cè)量?jī)x 干涉儀是利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng),而某一束相干光的光程變化是由它所通過(guò)的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起,所以通過(guò)干涉條紋的移動(dòng)變化可測(cè)量幾何長(zhǎng)度或折射率的微小改變量,從而測(cè)得與此有關(guān)的其他物理量。 產(chǎn)品型號(hào):FR-Basic UV/NIR-HR 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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CPS-25-CF-HV-10K低溫探針臺(tái)( Cryogen Probe Stations ) 簡(jiǎn)單介紹:經(jīng)濟(jì)高效,穩(wěn)定,可靠,方便的改善在極低的真空和溫度下對(duì)器件和電路的探測(cè)。內(nèi)置振動(dòng)隔離,智能熱管理,使用低排放的材料,*密封性,使該系統(tǒng)非常適合一系列需要更好的真空水平的應(yīng)用,如石墨烯的研究,分子電子學(xué)等的,系統(tǒng)采用閉式循環(huán)制冷機(jī)和專有的熱管理,可以經(jīng)濟(jì)快速的操作。內(nèi)置的隔振Z小化振動(dòng)符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。超穩(wěn)定的微操縱滿足設(shè)備探針*的準(zhǔn)確和可重復(fù)的接觸。 產(chǎn)品型號(hào):CPS-25-CF-HV-10K 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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Tergeo-PlusPIE等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:一、PIE等離子清洗機(jī)應(yīng)用 等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物,去除光阻膠:產(chǎn)生表面活性功能組; 清洗提高材料表面親水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS; 表面活化:渲染表面的親水性或疏水性,鍵合和沉積前的表面預(yù)處理 表面聚合:沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面; 表面改性:在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán),高分子材料表面修飾; 去除表面殘留微生物,醫(yī)療器械的消毒和 產(chǎn)品型號(hào):Tergeo-Plus 所在地:國(guó)外 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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Tergeo美國(guó)PIE等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:一、美國(guó)PIE等離子清洗機(jī)應(yīng)用 等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物,去除光阻膠:產(chǎn)生表面活性功能組; 清洗提高材料表面親水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS; 表面活化:渲染表面的親水性或疏水性,鍵合和沉積前的表面預(yù)處理 表面聚合:沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面; 表面改性:在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán),高分子材料表面修飾; 去除表面殘留微生物,醫(yī)療器械的消毒和 產(chǎn)品型號(hào):Tergeo 所在地:國(guó)外 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100 簡(jiǎn)單介紹:反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 產(chǎn)品型號(hào):PlasmaStar 100/100 RIE 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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PE-25美國(guó)進(jìn)口等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:美國(guó)進(jìn)口等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能:PE-25等離子體清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。 產(chǎn)品型號(hào):PE-25 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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POLOS450SPIN勻膠機(jī)POLOS 簡(jiǎn)單介紹:SPIN勻膠機(jī)POLOS450(英文名:Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜 詳細(xì)介紹:勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 行業(yè)俗稱:勻膠臺(tái)、勻膠機(jī)、旋涂?jī)x、涂膠機(jī)、鍍膜機(jī)、甩膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào):POLOS450 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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POLOS300SPIN-300勻膠旋涂?jī)x 簡(jiǎn)單介紹:SPIN-300勻膠旋涂?jī)x(英文名:Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜 詳細(xì)介紹:勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 行業(yè)俗稱:勻膠臺(tái)、勻膠機(jī)、旋涂?jī)x、涂膠機(jī)、鍍膜機(jī)、甩膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào):POLOS300 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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SPIN200i-NPPSPIN進(jìn)口勻膠旋涂?jī)x 簡(jiǎn)單介紹:SPIN進(jìn)口勻膠旋涂?jī)x(英文名:Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜 詳細(xì)介紹:勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 行業(yè)俗稱:勻膠臺(tái)、勻膠機(jī)、旋涂?jī)x、涂膠機(jī)、鍍膜機(jī)、甩膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào):SPIN200i-NPP 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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SPIN150iSPIN德國(guó)勻膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:SPIN德國(guó)勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜 詳細(xì)介紹:勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 行業(yè)俗稱:勻膠臺(tái)、甩膠機(jī)、旋涂?jī)x、涂膠機(jī)、鍍膜機(jī)、涂層機(jī) 產(chǎn)品型號(hào):SPIN150i 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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4130Carver 層壓壓片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:Carver 層壓壓片機(jī) 手動(dòng)液壓機(jī)帶有堆疊加熱和冷卻擋壓板,加熱的同時(shí)可以冷卻,用來(lái)快速制作執(zhí)照、照片和其他重要文件,溫度可以達(dá)到260℃。 產(chǎn)品型號(hào):4130 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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C型WABASH 壓膜成型機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH 壓膜成型機(jī) C型的模塊設(shè)計(jì)概念,開(kāi)放式入口允許更大的橡膠成型、縫合、拼合壓膜成型、封裝、去邊及層壓長(zhǎng)工件的靈活性,15噸或30噸位Genesis系列壓機(jī)或50噸、75噸或100噸位Vantage系列液壓機(jī)。 產(chǎn)品型號(hào):C型 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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G50H-19-R10ASTMWABASH 橡膠制備壓力機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:Genesis系列G50H-19型WABASH 橡膠制備壓力機(jī)設(shè)計(jì)用于硫化處理橡膠板為質(zhì)量控制、研究開(kāi)發(fā)和材料對(duì)比提供試樣,此壓機(jī)根據(jù)ASTM D3182用于制備樣片進(jìn)行材料性能測(cè)試。 產(chǎn)品型號(hào):G50H-19-R10ASTM 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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500H-26WABASH 真空熱壓機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH 真空熱壓機(jī)應(yīng)用:用于生產(chǎn)橡膠、硅樹(shù)脂以及復(fù)合材料,通常是外包金屬的模壓制品 產(chǎn)品型號(hào):500H-26 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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V150-15Wabash 壓鑄模壓機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH公司開(kāi)拓了積木式設(shè)計(jì)的理念用在具有單元組合可變?cè)退芑埠椭啥喑叽邕x擇的Wabash 壓鑄模壓機(jī)上。 產(chǎn)品型號(hào):V150-15 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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VL50H 24-12WABASH垂直式液體注射模壓機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH垂直式液體注射模壓機(jī)為您提供的全范圍液壓注射模壓系統(tǒng)用于液體熱固性樹(shù)脂的加工。并廣泛應(yīng)用在電子設(shè)備和醫(yī)療供給工業(yè)中的模壓液體硅橡膠。 產(chǎn)品型號(hào):VL50H 24-12 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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G30H-12-ASTMWABASH聚乙烯制備壓力機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH聚乙烯制備壓力機(jī)是為材料供應(yīng)者加工材料試片而特殊設(shè)計(jì)的,處理機(jī)和某些塑模機(jī)是用在質(zhì)量測(cè)試實(shí)驗(yàn)室的。 產(chǎn)品型號(hào):G30H-12-ASTM 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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GS30H-15WABASH真空熱壓機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH真空熱壓機(jī)某種復(fù)合材料時(shí),壓板需要較高的溫度,可選擇壓板溫度達(dá)到1200℉。根據(jù)生產(chǎn)目標(biāo),應(yīng)用多重板,工作臺(tái)、冷卻壓板和物料輸送系統(tǒng)裝備您的WABASH真空壓片機(jī)。 產(chǎn)品型號(hào):GS30H-15 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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400H-7248-BXWABASH壓膜成型機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:WABASH壓膜成型機(jī)用于復(fù)合材料、橡膠、木頭及塑料部件的平板硫化(壓膜成型)。 產(chǎn)品型號(hào):400H-7248-BX 所在地:北京市 更新時(shí)間:2024-05-16 |
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