目錄:孚光精儀(中國)有限公司>>進口激光器系列>>脈沖激光器>> FPIST-LPP-EUV激光等離子體EUV光源
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子 |
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這款激光等離子體EUV光源是采用激光誘導(dǎo)等離子體LPP技術(shù)制造的LPP-EUV光刻光源,具有超高亮度和超低碎屑debris*優(yōu)勢,非常適合取代Cymer公司LPP-EUV極紫外光源用于光刻。
這款
激光等離子體EUV光源采用快速旋轉(zhuǎn)液體金屬靶材,這種創(chuàng)新型的LPP靶材配備碎屑減緩技術(shù)(debris mitigation techniques)從而產(chǎn)生了清潔的光子EUV光源。
激光等離子體EUV光源采用快速旋轉(zhuǎn)靶材技術(shù),具有如下特點:
-將液滴碎片重定向到遠離輸入(激光)和輸出(EUV)窗口的位置
-高重復(fù)率激光系統(tǒng)(高達1MHZ)的無干擾靶面
-目標(biāo)連續(xù)時所需的最小同步
-優(yōu)良的固有源空間穩(wěn)定性
高轉(zhuǎn)速使得液滴角速度分布發(fā)生劇烈變化,初始速度與目標(biāo)線速度相當(dāng)
激光等離子體EUV光源型號S規(guī)格參數(shù)
型號 | EUV收集角 sr | 激光平均 功率, W | 激光 脈寬, ns | 激光重復(fù) 頻率, kHz | 等離子體 尺寸, µm | 亮度*, W/mm 2sr | EUV 功率** mW | 收集器壽命***, % |
s100 | 0.05 | 100 | 1.5 | 25 | 60 | 110 | 5 | >1年 |
s200 | 0.05 | 200 | 1.5 | 50 | 60 | 220 | 10 | >0.5年 |
s400 | 0.05 | 400 | 1.5 | 100 | 60 | 450 | 20 | >0.5年 |
型號 | EUV收集角 sr | 激光平均 功率, W | 激光 脈寬, ns | 激光重復(fù) 頻率, kHz | 等離子體 尺寸, µm | 亮度* W/mm 2sr | EUV功率** mW | 收集器壽命***, % |
M100 | 0.15 | 100 | 1.5 | 25 | 60 | 110 | 15 | >1year |
M200 | 0.15 | 200 | 1.5 | 50 | 60 | 220 | 30 | >0.5year |
M400 | 0.15 | 400 | 1.5 | 100 | 60 | 450 | 60 | >0.5year |
說明:所有參數(shù)均適用于帶內(nèi)(13.5 nm±1%)輻射。帶內(nèi)輻射的轉(zhuǎn)換效率為2%@2π。對于全波段(13.5nm±2%)的轉(zhuǎn)換效率為4%@2π,允許雙倍亮度和收集的EUV功率加倍。
通過使用可更換的膜,可以防止任何顆粒到達包含十字線、膜和任何敏感元件的腔室
*-在30-60um不同光源尺寸的等離子體中(亮度越高,光斑尺寸越小)
**-收集后鏡像。
***-反射率損失10%的時間
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)