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詳細分析掩模對準曝光機的試驗檢查方法
掩模對準曝光機的試驗方法：
1、環境條件檢查：
a、溫度、相對濕度檢查：試驗期間，用精度不低于1級的干濕球濕度計每4h測試一次環境的溫度，相對濕度。千濕球濕度計應置放在與工作臺高度一致，沒有氣流的地方；
b、潔凈度檢查：試驗期間，每4h測試一次潔凈度。選用測試精度能滿足相應潔凈度等級的光學粒子計數器檢測有效工作區域的潔凈度；
c、地面振動檢查：試驗期間，測試一次地面振動幅度，振動分析儀的拾振裝置應置放于工作臺機座附近。
2、外觀檢查：
a、用目視法進行外觀質量檢查；
b、用手感方法檢查移動機構的空位及運動情況。
3、安全檢查：
a、用自動擊穿裝置在500V直流電壓下，測量初級線路與機殼之間的絕緣電阻；
b、用自動擊穿裝置在1500V，50Hz交流電壓下，測量漏電流值。試壓1min，觀察有無擊穿和故電現象；
c、用目視法檢查接地標志。
4、顯微鏡檢查：
a、調節顯微鏡的目鏡、物鏡，用手感及目視法檢查目鏡、物鏡中心距調節性能、光軸平行性，左右視場的齊焦程度以及左右顯微鏡倍率的一致性；
調節顯微鏡視場亮度，用目視法檢查視場的亮度變化及清晰度；
b、調節顯微鏡，選擇相應分辨率版，通過能識別的線寬，檢查顯微鏡的分辨能力是否滿足曝光機標稱分辨率的需要；
c、調節顯微鏡物鏡與基片相對位置，用1級千分表測量能識別相應線寬的調節范圍。此調節范圍即為顯徼鏡焦深。
5、瞟光系統檢查：
a、調節曝光燈X，Y、Z方向位置，并檢查啟輝性能；
b、開啟噪光燈10min后，選用精度不低于0.33mW/c㎡，測試波長為365nm，404.7nm的紫外照度計檢瀏光強不均勻性；
c、開啟瞟光燈，檢查曝光燈是否能連續工作16h；
d、開啟曝光燈2h后，用半導體點測溫度計測量燈室外表溫升。
6、曝光量控制檢查：
a、光源處于熱穩定狀態后，連續開啟、關閉快門40次，檢查快門動作。關閉快門，將涂有500nm正性光致抗蝕劑的基片置于加有簡單圖形的掩模版及曝光頭下2min，而后顯影，檢查快門是否有漏光現象；
b、將定時系統曝光時間分別設置在6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s檔次上，在每設定時間下，用測速儀實測三次；
c、光源達到熱穩定狀態后，置曝光量檔次為6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s。在各設定檔次下，實測三次光強和瞟光時間；
d、用照度計測量掩模版中心光強值，每1h測一次，實測五次。
7、微動臺檢查：
a、用1級游標卡尺檢測掃描部件的調節范圍，用1級千分表檢測板架相對于顯徼鏡移動時的表面跳動量；
b、用1級游標卡尺檢測承片臺與掩模版的X、Y向相對調節范圍；用1級千分表檢測其微調小步距；
c、用精度等級不低于1’的量角器檢測平面轉動部件的粗調及微調范圍；
d、用1級游標卡尺和1級千分表檢測承片臺垂直升降粗調及徼調范圍。用千分表檢瀏接近式曝光的微調小步距。
