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[供應(yīng)]CVD系統(tǒng)設(shè)備
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
CVD系統(tǒng)設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域
詳細(xì)介紹
1 CVD系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(zhǎng)模式
2 CVD系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)
3 CVD系統(tǒng)使用計(jì)算機(jī)控制，可以設(shè)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
4 CVD系統(tǒng)可以制備高質(zhì)量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達(dá)數(shù)厘米，研究動(dòng)力學(xué)過程
5 CVD系統(tǒng)沉積效率高；薄膜的成分精確可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數(shù)毫米，可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)
2 CVD系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)
3 CVD系統(tǒng)使用計(jì)算機(jī)控制，可以設(shè)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
4 CVD系統(tǒng)可以制備高質(zhì)量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達(dá)數(shù)厘米，研究動(dòng)力學(xué)過程
5 CVD系統(tǒng)沉積效率高；薄膜的成分精確可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數(shù)毫米，可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)
天津中環(huán)電爐股份有限公司主營(yíng)產(chǎn)品：氣氛管式爐，高溫箱式電爐，高溫鐘罩爐
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