特征

• 與其他ICP方式相比，磁場輔助可在更低的壓力、更低的電子溫度和更高的密度下產生等離子體，并且可以進行從離子蝕刻到自由基蝕刻的廣泛等離子體控制，因此作為開發工具適用于各種工藝。

• 配備“星形電極”，防止沉積物粘附在射頻輸入窗口上。該設備還具有加熱功能，其設計注重再現性和穩定性。

• 我們實現了作為研發工具的可靠性，例如高可靠性的運輸機器人、簡單的裝置結構和易于維護。

• 豐富的可選功能，可增設暗盒室。

• NE-5700和NE-7800可兼容同一個腔體配置的多個腔體，適用于大規模生產線。

目的

• 復合材料（LED、LD、高頻器件、功率器件）。

• 電極、金屬布線、有機薄膜、陶瓷等加工

• 用于加工難以蝕刻的材料，如鐵電體、貴金屬和磁性薄膜。

• 納米壓印、NEMS、MEMS、各種傳感器。

• 生物芯片、微流控器件、光子晶體等

規格