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青島明華電子儀器有限公司

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四波剪切干涉波前傳感器

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 徠飛光電科技(深圳)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/11/23 13:51:49
  • 訪問(wèn)次數(shù) 15

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 徠飛光電科技(深圳)有限公司坐落在深圳國(guó)家科學(xué)城-光明中心區(qū),是一家集光學(xué)、精密機(jī)械、電子、計(jì)算機(jī)技術(shù)于一體的企業(yè),為國(guó)內(nèi)高校及企業(yè)研發(fā)提供光電設(shè)備及集成方案的供應(yīng)商。

徠飛光電致力于引進(jìn)全世界優(yōu)秀的光電技術(shù)產(chǎn)品,結(jié)合我們豐富的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),為客戶(hù)提供合適的解決方案,目前主營(yíng)產(chǎn)品包括:光譜測(cè)量系統(tǒng)、激光器、激光量測(cè)系統(tǒng)、精密光機(jī)產(chǎn)品、光學(xué)平臺(tái)、光學(xué)元器件等;產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、物理光學(xué)、鏡頭、半導(dǎo)體器件測(cè)試、汽車(chē)光學(xué)器件、顯示光學(xué)器件等領(lǐng)域

 徠飛光電始終堅(jiān)持以客戶(hù)需求為中心,與客戶(hù)協(xié)同創(chuàng)新,為行業(yè)帶來(lái)新的解決方案,實(shí)現(xiàn)跟客戶(hù)的價(jià)值雙贏、共同發(fā)展,立志成為國(guó)內(nèi)一流的光電解決方案供應(yīng)商;

目前徠飛光電為客戶(hù)提供以下產(chǎn)品和服務(wù):

波前分析系統(tǒng):四波剪切干涉波前傳感器、鏡頭MTF測(cè)試系統(tǒng)、等離子體診斷系統(tǒng)、透射式波前調(diào)制器

光譜系統(tǒng):拉曼光譜系統(tǒng)、熒光光譜系統(tǒng)、紫外拉曼系統(tǒng)等;

光電模組:激光光源、超亮白光光源、波長(zhǎng)可調(diào)光源、電學(xué)測(cè)試儀等

傳感器:光纖光譜儀、紅外光譜儀、波前傳感器、科研級(jí)制冷相機(jī)、激光功率計(jì)、光斑分析儀等

精密機(jī)械:電動(dòng)位移臺(tái)、手動(dòng)位移臺(tái)、光學(xué)調(diào)整架、光學(xué)平臺(tái)

光學(xué)元件:透鏡、窗口、反射鏡、棱鏡、濾光片、波片、偏振元件等

四波剪切干涉波前傳感器

隨著光波波前探測(cè)技術(shù)的發(fā)展,各種波前傳感器應(yīng)運(yùn)而生,從測(cè)量原理上可以分成兩類(lèi):一類(lèi)是根據(jù)幾何光學(xué)原理,測(cè)定波前幾何象差或面形誤差;另一類(lèi)是基于干涉測(cè)量原理,探測(cè)波前不同部分的干涉性,來(lái)獲取波前信息,主要有剪切干涉儀波前傳感器和相位獲取傳感器等。波前傳感器用于波前信息探測(cè),光束質(zhì)量評(píng)價(jià),光學(xué)元件檢測(cè)和激光大氣通信及人眼像差測(cè)量等各個(gè)領(lǐng)域,也廣泛地應(yīng)用于自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)之中。

波前傳感器.png

法國(guó)PhasicsSID4系列波前傳感器

                  -----四波橫向剪切干涉波前傳感器

產(chǎn)品介紹:法國(guó)PHASICS 的波前分析儀,基于其波前測(cè)量——四波橫向剪切干涉技術(shù)(4-Wave Lateral Shearing Interferometry)。作為夏克-哈特曼技術(shù)的改進(jìn)型,這種的技術(shù)將超高分辨率和超大動(dòng)態(tài)范圍結(jié)合在一起。任何應(yīng)用下,其都能實(shí)現(xiàn)全面、簡(jiǎn)便、快速的測(cè)量。

主要應(yīng)用領(lǐng)域:

1.       激光光束參數(shù)測(cè)量:相位(2D/3D),M2,束腰位置,直徑,澤尼克/勒讓德系數(shù)

2.       自適應(yīng)光學(xué):焦斑優(yōu)化,光束整形

3.       元器件表面質(zhì)量分析:表面質(zhì)量(RMS,PtV,WFE),曲率半徑

4.       光學(xué)系統(tǒng)質(zhì)量分析:MTF, PSF, EFL, 澤尼克系數(shù), 光學(xué)鏡頭/系統(tǒng)質(zhì)量控制

5.       熱成像分析,等離子體特征分析

6.       生物應(yīng)用:蛋白質(zhì)等組織定量相位成像

產(chǎn)品特點(diǎn):

1.       高分辨率:最多采樣點(diǎn)可達(dá)120000個(gè)

2.       可直接測(cè)量:消色差設(shè)計(jì),測(cè)量前無(wú)需再次對(duì)波長(zhǎng)校準(zhǔn)

3.       消色差:干涉和衍射對(duì)波長(zhǎng)相消

4.       高動(dòng)態(tài)范圍:高達(dá)500μm

5.       防震設(shè)計(jì),內(nèi)部光柵橫向剪切干涉,對(duì)實(shí)驗(yàn)條件要求簡(jiǎn)單,無(wú)需隔震平臺(tái)也可測(cè)試

 

型號(hào)參數(shù):

型號(hào)

SID4

SID4-HR

SID4-UV

SID4-UV-HR

SID4-SWIR

SID4-SWIR-HR

SID4-eSWIR-HR

 SID4 DWIR

孔徑( mm2)

5.02 x 3.75

9.98 x 8.64

7.8 x 7.8

13.3 x 13.3

9.60 x 7.68

9.60 x 7.68

9.6 × 7.6

 10.08 x 8.16

分辨率( µm)

27.6

24

26

26

120

60

120 µ

 68

采樣點(diǎn)

182 x 136

416 x 360

300 x 300

512x512

80x64

160 × 128

80 × 64

 160 x 120

波長(zhǎng)

400 -1100nm

400 - 1100nm

190~400nm

190~400nm

0.9~1.7um

0.9~1.7um

1.2 - 2.2 µm

 3 - 5 µm and 8 - 14 µm

精度

10 nm RMS

20 nm RMS

15nm RMS

20 nm RMS

> 15 nm RMS

15 nm RMS

40 nm RMS

75 nm RMS

靈敏度

< 2 nm RMS

< 2 nm RMS

2 nm RMS

 <2 nm RMS

< 2nm RMS

< 2 nm RMS

 <6nm RMS

 25nm RMS

采樣頻率

> 60 fps

> 10 fps

15 fps

15 fps

30 fps

> 30 fps


 50fps

處理頻率

10 Hz

3 Hz

> 2 Hz

>3 Hz

7 Hz

7 Hz

> 10 Hz

 10Hz

尺寸(mm3)

63 x 65 x 94

73 x 71 x 90

74 x 71 x 91

80.3 x 78.6 x 108.2

58 x 65 x 95

58 x 65 x 95

90 x 115 x 120

 85 x 118 x 193

重量

450 g

600 g

600 g

600 g

500 g

500g

1.8kg

 1.6kg

 

 

SID4.png

SID4全系列產(chǎn)品照片

四波橫向剪切干涉技術(shù)背景介紹

Phasics四波橫向剪切干涉:當(dāng)待測(cè)波前經(jīng)過(guò)波前分析儀時(shí),光波通過(guò)特制光柵(圖1)后得到一個(gè)與其自身有一定橫向位移的復(fù)制光束,此復(fù)制光波與待測(cè)光波發(fā)生干涉,形成橫向剪切干涉,兩者重合部位出現(xiàn)干涉條紋(圖2)。被測(cè)波前可能為平面波或者匯聚波,對(duì)于平面橫向剪切干涉,為被測(cè)波前在其自身平面內(nèi)發(fā)生微小位移發(fā)生微小位移產(chǎn)生一個(gè)復(fù)制光波;而對(duì)于匯聚橫向剪切干涉,復(fù)制光波由匯聚波繞其曲率中心轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生。干涉條紋中包含有原始波前的差分信息,通過(guò)特定的分析和定量計(jì)算梳理(反傅里葉變換)可以再現(xiàn)原始波前(圖3)。

二維光柵.png

圖1、特制二維相位延遲光柵

四波剪切干涉原理.png

圖2.干涉原理示意圖

波前重構(gòu).png

圖3. 波前相位重構(gòu)示意圖

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1.          高采樣點(diǎn):

高達(dá)400*300個(gè)采樣點(diǎn),具備強(qiáng)大的局部畸變測(cè)試能力,降低測(cè)量不準(zhǔn)確性和噪聲;同時(shí)得到高精度強(qiáng)度分布圖。

2.       消色差:

干涉和衍射相結(jié)合抵消了波長(zhǎng)因子,干涉條紋間距與光柵間距相等。適應(yīng)于不多波長(zhǎng)光學(xué)測(cè)量且不需要重復(fù)校準(zhǔn),

3.       可直接測(cè)量高動(dòng)態(tài)范圍波前:

可見(jiàn)光波段可達(dá)500μm的高動(dòng)態(tài)范圍;可測(cè)試離焦量,大相差,非球面和復(fù)曲面等測(cè)。

  應(yīng)用方向:

1.       激光光束測(cè)量

可以實(shí)時(shí)測(cè)量強(qiáng)度相位(2D/3D)信息,通過(guò)single shot就可以得到,Zernike/Legendre系數(shù),遠(yuǎn)場(chǎng),光束參數(shù),光束形狀M2等,非常適合于脈沖激光器的光束參數(shù)表征。

2光學(xué)鏡頭測(cè)量

Phasics波前傳感器可對(duì)光學(xué)系統(tǒng)和元器件進(jìn)行透射和反射式測(cè)量,專(zhuān)業(yè)Kaleo軟件可分析PSF,MTF等

c73ece1fe7a8988a.png

 圖4、透射式和反射式測(cè)量

3.光學(xué)整形:

利用Phasics波前傳感器檢測(cè)到精確的波前畸變信息,反饋給波前校正系統(tǒng)以補(bǔ)償待測(cè)波前的畸變,從而得到目標(biāo)波前相位分布和光束形狀。右圖上為把一束RMS=1.48λ的會(huì)聚光矯正為RMS=0.02λ的準(zhǔn)平面波;右圖下為把分散焦點(diǎn)光斑矯正為準(zhǔn)高斯光束。高頻率大氣湍流自適應(yīng)需要配合高頻波前分析儀。

OASystem.png

圖5、激光器光斑整形

4.光學(xué)表面測(cè)量:

  Phasics的SID4軟件可以直接測(cè)量PtV, RMS, WFE和曲率半徑等,可直接進(jìn)行自我校準(zhǔn),兩次測(cè)量相位作差等。非常方便應(yīng)用于平面球面等形貌測(cè)量。部分測(cè)量光路如下圖所示

面型測(cè)量.png

圖6、光學(xué)元件表面測(cè)量

5.等離子體測(cè)量

法國(guó)Phasics公司SID4系列等離子體分析儀(Plasma Diagnosis)是一款便攜式、高靈敏度、高精度的等離子體分析儀器。該產(chǎn)品可實(shí)時(shí)檢測(cè)激光產(chǎn)生的等離子體的電子密度、模式及傳播方式。監(jiān)測(cè)等離子體的產(chǎn)生、擴(kuò)散過(guò)程,以及等離子體的品質(zhì)因數(shù)。更好地為客戶(hù)在噴嘴設(shè)計(jì)、激光脈沖的照度、氣壓、均勻性等方面提供優(yōu)化的數(shù)據(jù)支持。

等離子體檢測(cè).jpg

圖7、等離子體電子密度診斷光路圖

等離子體診斷.gif

圖8、等離子體電子密度隨時(shí)間演化

 

 


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