化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)> 實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/11/7 18:43:05
- 訪問(wèn)次數(shù) 103
產(chǎn)品標(biāo)簽
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實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)產(chǎn)品參數(shù) :
1.曝光面積:160mm*160mm
2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
3.對(duì)準(zhǔn)精度:±1-1.5um
4.光源強(qiáng)度:35mW/cm2
5.UV光源:進(jìn)口LED模塊
6.曝光中心波長(zhǎng):365nm
7.光源壽命:1萬(wàn)小時(shí),光源平行性:≤2°
8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
9.照度不均勻性:≤3%
10.曝光設(shè)定:定時(shí)
11.可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
12.間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙0-1200um
13.可調(diào),可自動(dòng)分離和消除間隙
14.樣片、掩模版相對(duì)移動(dòng)范圍:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
15.掩模版找平方式:球氣浮自動(dòng)找平
16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
17.標(biāo)配承片臺(tái):2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
18.標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
19.對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng):光學(xué)+CCD,顯微倍數(shù):放大倍率:150倍-720倍可調(diào)