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化工儀器網>產品展廳>行業專用儀器及設備>其它行業專用儀器>化學/化工> 化學氣相沉積MOCVD

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化學氣相沉積MOCVD

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公司主要銷售實驗室儀器儀表、實驗室儀器設備、散熱材料、增材制造設備、電氣設備、電子產品、通訊器材、機械配件、通訊器材、電腦軟硬件、機械配件、非標自動化設備、五金工具、實驗耗材和試劑（不含危險化學品）、激光儀器及輔助設備；

電氣設備、信息系統設計、集成；工程管理服務；單晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳納米管技術開發、技術轉讓和檢驗檢測服務；

計算機軟硬件及輔助設備、信息系統軟件、非標自動化設備的租賃和維修；

銷售醫療器械、文化辦公用品、五金交電、機械設備、監控設備、建筑材料、裝飾材料、辦公室用品；第二類醫療器械經營、第三類醫療器械經營；依托進口核心產品做研發：

團隊是由深圳大學從事材料，光學，生物團隊組成，目前核心創始人3位，分別負責材料，生物和光電領域，分別提供相應配套設施以及技術解決方案等；業務目前主要覆蓋東莞，深圳，惠州，廣州等整個廣東地區，可快速抵達廣東所在區域提供技術支持和服務。

目前典型服務客戶有：清華大學深圳國際研究生院，哈爾濱工業大學（深圳），南方科技大學，深圳大學，深圳技術大學，北京大學深圳研究生院，松山湖材料實驗室，大灣區大學（籌），東莞理工學院，中山大學，暨南大學，華南理工大學，廣東工業大學等

純水機，離心機，旋轉蒸發儀，光譜儀，質譜儀，頻譜儀，示波器，掃描電子顯微鏡，電化學工作站,，流式細胞儀，手套箱，磁控濺射

v MOCVD設備是通過將反應物質以有機金屬化合物氣體分子的形式，經載帶氣體送到反應室，進行熱分解反應而生長出薄膜材料

v 應用方向：Ga2O3,GaN, InP, GaAs, InSb, GaInNAs, II-VI等等

v 從研發到大規模生產

v 襯底尺寸：3x2 inch、1x4 inch、1x3 inch、1x2 inch

通過載波交換實現：6 x 2 inch、3 x 3 inch、1 x 6 inch

v Ga2O3薄膜生長速率：>3um/h

v Ga2O3薄膜表面粗糙度：5umx5um范圍由AFM在Ga2O3襯底上測量 ≤1.0 nm

v 加熱系統：采用鎢絲加熱，三溫區控制，溫度至1400℃

v 反應腔室內托盤與噴淋頭間距可調（范圍覆蓋5 mm至25 mm）

v 工藝過程中，具有實時晶圓表面溫度和晶圓翹曲度監測功能

v 搭載溫度監測系統，可實時掃描晶圓溫度mapping圖



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