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project 539 波蘭 PREVAC 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 超真空

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應用領(lǐng)域 電子,航天,電氣,綜合

波蘭 PREVAC 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 超真空

波蘭 PREVAC 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 超真空

波蘭 PREVAC 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 超真空 AFM System [project 539]


UHV-HP AFM 平臺是一種特別的原子力顯微鏡分析系統(tǒng),可在寬壓力范圍內(nèi)工作。它專注于高度靈活的樣品環(huán)境,專用于氣固界面的前沿研究。該系統(tǒng)配備了快速進入裝載鎖和準備室。

  • AFM 室– 由不銹鋼制成,帶有不同尺寸的連接法蘭,用于當前和其他設(shè)備。工作壓力范圍從1 atm 到 UHV(在 150 oC 烘烤后),

  • 用于 AFM 模塊的特殊滑軌以方便對顯微鏡的維修,

  • 裝載鎖定室允許裝載和存儲多達 4 個旗形樣品架和 4 個懸臂,

  • 帶有 4 軸機械手的兩級制備室(帶有集成的石英天平和高達 1000 °C 的加熱可能性),

  • 配備電子束蒸發(fā)器 EBV 40A1和離子源 IS 40C1 的制備室,用于樣品表面清潔,

  • 特殊設(shè)計的泵送系統(tǒng)– 前真空和渦輪分子泵的隔振,

  • 沉積速率測量系統(tǒng)TMC13和樣品加熱電源HEAT3-PS控制和穩(wěn)定樣品溫度,

  • 整個泵送和加氣系統(tǒng)由PLC控制器控制,

  • 用戶友好的線性傳輸系統(tǒng)。

AES ARPES EA15 EA15-HP50 IS 40C1 IS 40E1 ISS Kerr效應 MBE MBE Chamber MBE腔室 Prevac PREVAC 離子源 TPD/TDS UHV特高壓多室分析系統(tǒng) UHV表面科學分析系統(tǒng) UPS UVS 40A2 XPS(ESCA) X 射線源 光電子能譜儀 光電子能譜測量儀 半球分析儀 半球能量分析儀 原子力顯微鏡 原子力顯微鏡分析 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 多層薄膜的原位實時磁光Kerr效應 無油真空泵 殘留氣體分析儀 真空光譜儀 真空室 真空油泵 真空泵 真空泵系統(tǒng) 真空測控裝置 真空能量分析 真空能量分析光譜 真空腔 真空表面分析系統(tǒng) 離子源 表面分析系統(tǒng) 超薄磁性薄膜 高壓光發(fā)射光譜特高壓系統(tǒng) 高真空泵



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