PISC系列等離子體增強純離子鍍膜設備

一、設備功能簡介

1、純離子鍍膜源，采用高效電磁過濾系統，有效祛除顆粒，獲得更高純度的離子束流，幫助提升涂層基礎硬度及結合力；

2、高能離子束清洗源，采用特殊設計的放電結構，有效兼容了等離子清洗活化、輔助電離、獨立沉積等功能;

3、磁控濺射源，采用創新的磁場設計，有效提升靶材利用率30%以上;

4、磁約束氣相沉積源，可靠且易于維護的結構，可以實現快速而又細膩的涂層沉積。

二、主要特點及技術優勢

1、等離子體增強純離子鍍膜設備可實現TAC-DLC的組合，比單純CVD的結合力大幅度提升，同時降低了PVD的顆粒度，縮短工藝時間;

2、可實現多種工藝C膜沉積，純離子鍍TAC，磁約束放電DLC，陽極層離子源鍍DLC等;

3、設有電磁掃描裝置和軟件，可定點定時控制等離子體的束流方向，極大改善了鍍膜均勻性問題，整爐膜層均勻性控制±5%以下;

4、優化的磁場設計及冷卻設計，維護方便，設備穩定性好;

5、友好的人機界面，實時記錄工藝數據，利于質量管控、疑難分析、開發新工藝等;

6、本項目為交鑰匙設備，純源公司提供整套解決方案，包括穩定成熟鍍膜配方。

三、設備參數

四、膜層系列

典型涂層類型:

(1)Me-TAC，金屬TAC復合涂層，應用廣泛；

(2)Me-DLC，金屬DLC復合涂層，應用廣泛；

(3)Me-TAC-DLC，TAC-DLC復合涂層，獲得TAC更高基礎硬度與結合力的同時，兼有DLC的沉積速率及細膩外觀。

五、應用領域

1、高校及科研院所；

2、特殊功能零部件；

3、工業領域：切削工具、注塑模具、紡織零配件等。

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室-檢測結果