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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備>GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機

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GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述:

GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求,覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用,可用于典型0.35um、0.18um工藝節點,可支持90nm工藝節點,可兼容6寸和8寸晶圓

2. 設備應用

  晶圓尺寸

  6、8 英寸

 

  適用材料

  硅,碳化硅,硅基氮化鎵

 

  適用工藝

  預清洗、去膠清洗、氮化硅去除、金屬去除(Co,Ti)、Recycle 清洗、拋光后清洗、Epi 前清洗、 Epi 后清洗

 

  適用領域

  集成電路、襯底材料、化合物半導體、功率半導體

 

3. 特色優點

北方華創 GAMA Series 清洗機在腐蝕均勻性方面表現明顯。腐蝕均勻性對于保證芯片制造的一致性和穩定性具有關鍵意義。
這款清洗機通過精心設計的流體流動系統、化學溶液分布機制以及溫度控制策略,確保在整個晶片表面實現高度均勻的腐蝕效果。無論是在大面積的晶片還是復雜的圖形結構區域,都能保持腐蝕程度的一致性。
可能采用了多噴頭均勻噴淋、旋轉式清洗等技術,使化學溶液能夠均勻地覆蓋晶片表面,避免出現局部腐蝕過度或不足的情況。同時,精準的溫度控制系統能夠確保整個清洗過程中溫度的均勻性,因為溫度的差異可能會影響腐蝕反應的速率和均勻性。在實際應用中,即使面對不同材質和厚度的晶片,該清洗機也能提供出色的腐蝕均勻性,從而有效提高芯片的質量和性能。

 

  4.設備特點

 

  結構設計緊湊,占地面積小

 

  模塊化設計,配置靈活、可擴展

 

  成熟的工藝槽設計,確保工藝穩定性

 

  精確的化學稱量系統,實現高質量工藝

 




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