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日本OTSUKA玉崎科學供應大冢光學膜厚量測儀這是一款小型、低成本的膜厚計,采用高精度光學干涉法測量膜厚,操作簡單。
我們采用一體式外殼,將必要的設備存儲在主體內,實現穩定的數據采集。
盡管價格低廉,但也可以通過獲得絕對反射率來分析光學常數。
日本OTSUKA玉崎科學供應大冢光學膜厚量測儀產品信息:
特征:
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緊湊、低成本、易于操作的膜厚測量。
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通過選擇光譜儀和光源可以選擇測量膜厚范圍。
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簡單的條件設定和測量操作,任何人都可以輕松測量。
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配備實時監控功能、模擬功能等。
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測量光斑直徑φ3mm(標準),支持從3nm到35μm的薄膜到厚膜的廣泛測量。
測量項目
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絕對反射率測量
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膜厚分析(10層)
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光學常數分析(n:折射率,k:消光系數)
測量目標
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功能膜、塑料
透明導電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋代理等。 -
半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、抗蝕劑、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。 -
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。 -
光學材料
濾光片、增透膜等。 -
FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機薄膜、封裝材料)等。 -
其他
硬盤、磁帶、建筑材料等。
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