1.產品概述：

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發的離子束沉積設備，VEECCO憑借25年來在離子束產品域建立導地位，實現當下無缺陷的EUV掩模空白。

2.產品工藝：

光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自1990年代以來，Veeco已成功服務于光掩模市場，多年的學習造就了當先進的系統。IBD-LDD系統是當EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

3.產品優勢：

經過生產驗證的平臺

低的缺陷密度

優異的均勻性和可重復性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中