亚洲中文久久精品无码WW16,亚洲国产精品久久久久爰色欲,人人妻人人澡人人爽欧美一区九九,亚洲码欧美码一区二区三区

官方微信|手機版

產品展廳

產品求購企業資訊會展

發布詢價單

化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>原子層沉積設備> 原子層沉積設備2

分享
舉報 評價

原子層沉積設備2

具體成交價以合同協議為準

聯系方式:汪先生查看聯系方式

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微鏡、顯微鏡數碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數碼圖像分析系統、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產品

代理經銷的產品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統,激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統,動物超聲系統,3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統,立體顯微鏡,國產激光共聚焦顯微鏡,精準醫學顯微切割,激光顯微切割系統,按需搭建顯微系統,熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發展,合作共贏"的企業宗旨,快樂中結識新朋友,穩步中追求新發展。目前公司已經擁有一支由專業技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產品配套、安裝調試、應用指導、維護保養在內的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農業大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業技術經驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業的人員,過硬的技術,優秀的產品"精神,為您提供專業、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統,DNA/RNA合成儀,半導體行業儀器設備,生命科學儀器,光刻機,

價格區間 50萬-100萬 應用領域 環保,生物產業,石油,制藥,綜合

原子層沉積設備(ALD)為一種氣相化學沉積技術。大多數的ALD反應,將使用兩種化學物質稱為前驅物。這些前驅物以連續且自限的方式與材料表面進行反應。原子層沉積設備2通過ALD循環的次數,緩慢的沉積薄膜。而熱沉積式的ALD需要較高的製程溫度(傳統為150~350oC)。

SYSKEY的系統可以精準的控制ALD的製程,薄膜的厚度和均勻度皆小於+/- 1%。

厚度均勻度(WIW):

原子層沉積設備單個12英寸晶圓用於沉積目標厚度為5nm的Al2O3和HfO2膜。使用橢偏儀進行27點厚度測量並輸入標準偏差公式。在±0.5nm範圍內和均勻度的5%以內。 原子層沉積設備2

介電常數和功函數:

準備三個矽晶片,並以固定的厚度沉積Al2O3/ TiN和化學氧化物/ HfO2/ TiN。原子層沉積設備2測量三個樣品的CV圖以計算介電常數和洩漏電流:介電常數應為7?9(Al2O3)和18?22(HfO2),並且洩漏電流小於1 nA(@ 1V)。

原子層沉積設備2

原子層沉積設備應用領域腔體
  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機電系統。

  • 納米電子學。

  • 納米孔結構薄膜。

  • 光學薄膜。

  • 薄膜封裝技術。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體,其佔地面積小,可縮短製程時間。

  • 通過使用水冷系統、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。



配置和優點選件
  • 客製化的基板尺寸,直徑可達300mm晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±1%。

  • 較高的深寬比和複雜結構具有相同特性之薄膜沉積。

  • 薄膜具有高緻密性。

  • 前驅物材料可多達6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥,反應時間為10毫秒。

  • 通過穩定的溫度控制,將基板載臺加熱到400°C。

  • 材料:Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2, TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統。










化工儀器網

采購商登錄
記住賬號    找回密碼
沒有賬號?免費注冊

提示

×

*您想獲取產品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個人信息:

溫馨提示

該企業已關閉在線交流功能