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原子層沉積系統

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微鏡、顯微鏡數碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數碼圖像分析系統、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產品

代理經銷的產品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統,激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統,動物超聲系統,3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統,立體顯微鏡,國產激光共聚焦顯微鏡,精準醫學顯微切割,激光顯微切割系統,按需搭建顯微系統,熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發展,合作共贏"的企業宗旨,快樂中結識新朋友,穩步中追求新發展。目前公司已經擁有一支由專業技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產品配套、安裝調試、應用指導、維護保養在內的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農業大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業技術經驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業的人員,過硬的技術,優秀的產品"精神,為您提供專業、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












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價格區間 面議 應用領域 環保,生物產業,石油,制藥,綜合

原子層沉積系統ALD 用於薄膜沉積的原子層沉積是基於順序使用氣相化學過程的最重要技術之一;它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積(CVD)。多數ALD反應使用兩種或更多種化學物質(稱為前驅物,也稱為“反應物")。這些前驅物以一種連續的且自我限制的方式,一次與一種材料的表面反應。通過多個ALD循環,薄膜被緩慢沉積。 ALD為製造半導體元件的重要製程,並且是可用於合成納米材料主要工具的一部分。

原子層沉積系統ALD具有許多優點,例如出色的均勻性,在複雜形狀的基板表面上沉積的具有相同膜厚的膜保形性,低溫處理。因此,ALD被應用於微電子,納米技術和生物技術領域中,這些領域經常在有機和生物樣品之類的軟基底。上工作。


原子層沉積系統

一種先進的薄膜沉積技術設備,廣泛應用于化學、材料科學以及微電子、光學、新能源等多個領域。以下是對原子層沉積系統的詳細介紹:一、基本原理原子層沉積技術(Atomic Layer Deposition,ALD)是一種基于表面自限制反應的薄膜沉積技術。其原理是通過將氣相前驅體交替地通入反應室,在基底表面發生氣-固化學反應,逐層形成原子級別的薄膜。每個沉積循環包括前驅體A的吸附與反應(半反應A)、惰性氣體吹掃、前驅體B的吸附與反應(半反應B)以及再次惰性氣體吹掃四個步驟。這種自限制的反應機制確保了薄膜的精確厚度控制和優異的均勻性。二、系統組成典型的原子層沉積系統由以下幾個主要部分組成:主要反應區域,需具備均勻的溫度和壓力環境。反應室設計對ALD過程至關重要,包括冷壁反應室和熱壁反應室兩種類型,以適應不同的沉積需求。2. 前驅體輸送系統:包括前驅體源和輸送管道,確保前驅體的穩定供應。前驅體的選擇對ALD過程至關重要,需要具有高揮發性、高反應性、化學穩定性以及無腐蝕性和毒性等特點。3. 氣體控制系統:控制前驅體和惰性氣體的引入和沖洗過程,確保反應室內的氣體環境符合沉求。4. 真空系統:維持低壓環境,確保氣體流動和反應的可控性。三、技術特點1. 精確控:通過控制沉積循環次數,可以實現亞納米級精度的薄膜厚度控制,具有優異的重復性。2. 大面積均勻性:能夠在大面積基底上形成均勻光滑的涂層,甚至超過米尺寸。3. 三維保型性:具有的3D共形性和100%階梯覆蓋,能夠在平坦、內部多孔和顆粒周圍樣品上形成均勻涂層。4. 廣泛適用性:適用于各種類型的基底材料,包括晶圓、3D零件、薄膜卷、多孔材料以及從納米到米尺寸的粉末。5. 溫和沉積工藝:通常不需要超高真空環境,適用于敏感基材的沉積。6. 易于擴展:對溫度或前驅體劑量變化不敏感,易于批量擴展,可以一次性堆疊和涂覆許多基材。四、應用領域原子層沉積技術在多個領域具有廣泛應用,






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