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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>原子層沉積設備> SENTECH二維材料刻蝕沉積

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SENTECH二維材料刻蝕沉積

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微鏡、顯微鏡數碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數碼圖像分析系統、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產品

代理經銷的產品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統,激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統,動物超聲系統,3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統,立體顯微鏡,國產激光共聚焦顯微鏡,精準醫學顯微切割,激光顯微切割系統,按需搭建顯微系統,熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業專用儀器/其它半導體行業儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發展,合作共贏"的企業宗旨,快樂中結識新朋友,穩步中追求新發展。目前公司已經擁有一支由專業技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產品配套、安裝調試、應用指導、維護保養在內的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農業大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業技術經驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業的人員,過硬的技術,優秀的產品"精神,為您提供專業、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統,DNA/RNA合成儀,半導體行業儀器設備,生命科學儀器,光刻機,

價格區間 面議 應用領域 環保,生物產業,石油,制藥,綜合

SENTECH二維材料刻蝕沉積的優勢:

用于敏感襯底的PEALD:

真遠程等離子體源能夠在低溫<100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層,在樣品表面提供高通量的反應性氣體,而不受紫外線輻射或離子轟擊。

用于工藝研發和改善的實時監測:

ALD實時監視儀RTM的原位診斷實現了單一ALD循環的超高分辨率。優點是確認ALD范圍,減少處理時間和總生產成本。采用橢偏光譜、QCM和QMS進行原位診斷,也是我們原子層沉積設備的優點。

簡易的腔體清洗:

定期反應腔體清洗對于穩定和可重復的原子層沉積工藝是的。借助于用于清洗原子層沉積系統的升降裝置,可以容易地打開反應腔體。

集成手套箱:

SENTECH原子層沉積設備與各種供應商的手套箱兼容。

多腔集成:

原子層沉積設備可作為SENTECH多腔系統的一個模塊。我們的原子層沉積設備可以與SENTECH PECVD和蝕刻設備結合用于工業應用。可選的多腔系統也具備片盒到片盒裝片的特點。

SENTECH二維材料刻蝕沉積實現了熱ALD和等離子體增強ALD操作。ALD設備可以配置為用于氧化物、氮化物和金屬沉積。三維結構具有出色的均勻性和保行性。利用ALD、PECVD和ICPECVD,SENTECH提供等離子體沉積技術,用于從納米尺度沉積到數微米的薄膜沉積。

SENTECH ALD設備實現了熱ALD和等離子體增強ALD膜交替沉積多層結構。熱ALD和等離子體增強ALD可在同一個反應腔體中用快門來切換。

SENTECH提供了前沿的快速原位監測技術,實時監測和廣泛范圍的光譜橢偏儀可逐層監測薄膜生長。



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