PECVD等離子沉積設(shè)備
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/10 8:58:04
- 訪問次數(shù) 136
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價格區(qū)間 | 100萬-200萬 | 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,能源,制藥 |
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PECVD等離子沉積設(shè)備
低成本效益高
PECVD等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備Depolab 200將平行板等離子體源設(shè)計與直接載片相結(jié)合。
升級擴展性
根據(jù)其模塊化設(shè)計,PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組,低頻射頻源和更多的氣路。
SENTECH控制軟件
強大的用戶友好軟件包括模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝處方編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設(shè)備,它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計和直接載片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。從2″至8″晶片和樣品的標準應用開始,可以逐步升級以完成復雜的工藝。
PECVD Depolab 200的顯著特點是系統(tǒng)的可靠設(shè)計,軟件和硬件的靈活性。在該設(shè)備上開發(fā)了不同的工藝,例如用于高質(zhì)量氮化硅和氧化硅層的沉積。PECVD Depolab 200包括帶氣路柜的反應腔體,電子控制,計算機、前級泵和配電箱。
Depolab 200 等離子增強沉積設(shè)備用于在從室溫到400℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。PECVD Depolab 200特別適用于沉積用于刻蝕掩膜,電隔離膜及其他的介質(zhì)膜。
PECVD Depolab 200由SENTECH的控制軟件操作,使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。