TU-4100/J 日本原裝TAISEI大成技研 氣態除粉設備
參考價 | ¥ 15633 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 池田屋實業(深圳)有限公司
- 品牌 TAISEI/日本
- 型號 TU-4100/J
- 產地 日本
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/8/7 17:16:54
- 訪問次數 180
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產地類別 | 進口 | 價格區間 | 1萬-2萬 |
---|---|---|---|
應用領域 | 環保,化工,生物產業,制藥,綜合 |
日本原裝TAISEI大成技研 氣態除粉設備
日本原裝TAISEI大成技研 氣態除粉設備
大成技研株式會社提供的“氣體粉末去除裝置”主要去除半導體、液晶制造設備(離子注入、CVD、蝕刻等)中排出的氣體反應生成物(微細粉末)。
特別是,通過旋轉渦流吸附和高性能磁性元件,可以排除離子注入和CVD設備中產生的1μm以下的反應產物。該裝置在元件內幾乎沒有壓力損失,可用于真空泵的前級和后級,是一種創新的粉末捕集器,可以輕松處理現有過濾器無法去除的細粉末。它有望顯著減少維護工時并提高生產率。
TRAPACK是一種粉末去除捕集器,可去除半導體和液晶制造設備廢氣中的反應產物(細粉)。結構有渦流旋流吸附型、磁性元件型(Trapac Element)以及兩者結合的組合型三種。特別是,組合型排除了蝕刻設備和CVD設備發出的亞微米細粉。
清潔廢氣管道 減少前線閥門的維護 真空泵故障預防 提高生產力 減少前線維護
外觀結構 特征
去除細小反應產物(細粉)
單元密度低,網格空隙大
粉末分層在元件的表面和內部。
主要用途 規格
注入 ?一次元件/Trapac元件
蝕刻 ?次要元素/無
安裝位置/真空、排氣
TU-KN100
(元件型) 主要用途:通用
元件類型:DL
端口尺寸:NW25
尺寸:D90mm x H195mm
重量:1.9kg
TU-KN200
(元件型) 主要用途:通用
元件類型:EL
端口尺寸:NW40
尺寸:D140mm x H210mm
重量:4.6kg
TU-KN500
(元件型) 主要用途:通用
元件類型:GL
端口尺寸:NW40
尺寸:D210mm x H260mm
重量:10kg
TU-KN500W
(元件型) 主要用途:通用
元件類型:HL
接管尺寸:NW40
尺寸:D210mm x H390mm
重量:13kg
TU-200
(元件型) 主要用途:
植入 元件類型:EL
連接尺寸:NW25
尺寸:D210mm x H210mm
重量:5.3kg
TU-250
(元件型) 主要用途:
植入 元件類型:FL
連接尺寸:NW40
尺寸:D210mm x H295mm
重量:6.5kg
TU-500
(元件型) 主要應用:廠內/蝕刻
元件類型:GL
連接直徑:NW40
尺寸:D300mm x H267mm
重量:10.0kg
TU-500W
(元件型) 主要應用:植入/蝕刻
元件類型:HL
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:D300mm x H415mm
重量:13kg
TU-1000
(元件型) 主要應用:就位/蝕刻
元件類型:GL
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:D300mm x H555mm
重量:16.5kg
頁首
TRAPPACK(Uzu型)
這是一種氣體除粉裝置,是 Trapac 的進一步發展,配備了漩渦型元件。
外觀結構 特征
由于螺旋結構,粉末不會長時間經歷壓力損失
幾乎所有粉末都被渦流數和渦流螺距的組合拒之門外。
粉末分層在安裝的渦流元件的表面上。
?主要用途 / CVD、蝕刻 ?一次元件 / 渦流元件
?二次元件 / 無 ?安裝位置 / 真空、排氣
TU-50LM /LMJ
(渦流型) 主要用途:蝕刻/CVD
元件類型:ASD-50 渦流
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□370mm x H707mm
重量:53kg / 68kg
TU-65LM /LMJ
(渦流型) 主要用途:蝕刻/CVD
元件類型:ASD-65 渦流
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□400mm x H1013mm
重量:94kg / 99kg
TU-85LM /LMJ
(渦流型) 主要用途:蝕刻/CVD
元件類型:ASD-85 渦流
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□430mm x H1064mm
重量:100kg / 115kg
TU-95LM /LMJ
(渦流型) 主要用途:蝕刻/CVD
元件類型:ASD-95 渦流
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□485mm x H1064mm
重量:145kg / 160kg
TU-105LM /LMJ
(渦流型) 主要用途:蝕刻/CVD
元件類型:ASD-105 渦流
連接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□535mm x H1264mm
重量:180kg / 240kg
頁首
TRAPPACK(組合型)
TRAPACK的進一步進化,配備組合型元件(渦流型+元件型)的氣態除粉裝置。
外觀結構 特征
去除細小反應產物(細粉)
單元密度低,網格空隙大
粉末在螺旋和元件部分分層。
?主要用途 / CVD、蝕刻 ?一次元件 / 渦流元件
?二次元件 / Trapak 元件 ?安裝位
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