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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>TRP450 高真空磁控濺射薄膜沉積系統

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TRP450 高真空磁控濺射薄膜沉積系統

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磁控濺射薄膜

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1.產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業的軟件控制系統。
2.設備用途:
可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
3.用戶評價:
TRP-450高真空鍍膜機其設備質量過關,功能齊全,性能穩定,自動化程度高,抽氣速平穩,電源穩定可靠,氣路流暢密閉,鍍膜質量平整光滑,均勻致密,結合力強,且系統操控智能,便捷,可滿足科研實驗與生產制造的需求,是一款優秀的磁控濺射鍍膜系統?!本┦┘夹g研究院有限公司 李老師
4.真空室:

真空室結構:圓筒形開門
真空室尺寸:φ450x400mm
限真空度:≤6.6E-6Pa
沉積源:永磁靶3套,φ2英寸,可以向上濺射或向下濺射。
樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,高800℃
占地面積(長x寬x高):約1米×1.8米×2米
電控描述:全自動
工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%




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