原子層沉積 （ALD） 用于精確、保形和均勻的沉積

原子層沉積技術的特點是能夠沉積保形和均勻的薄膜，并在原子水平上精確控制厚度，并繼續在半導體器件中發揮越來越大的作用，例如高介電原理材料的沉積。原子層沉積的一些主要應用包括傳感器、光電子學和 2D 材料。

用于工藝開發和優化的原位診斷

AL 實時監測器的原位診斷可實現單個 ALD 周期的超高分辨率。其優點是確認原子層沉積（ALD）制度，縮短處理時間，并降低總擁有成本。光譜橢圓偏振儀也作為原位診斷提供，為我們的原子層沉積系統具有特定的優勢。

反應器清潔簡單

定期清潔反應器對于穩定和可重復的原子層沉積處理至關重要。在用于清潔我們的原子層沉積系統的提升裝置的幫助下，可以很容易地打開反應器室。

集群集成

原子層沉積系統可作為SENTECH集群工具的模塊使用。我們的原子層沉積系統可以與SENTECH PECVD和蝕刻系統結合使用，用于工業應用。集群工具可選地具有盒到盒加載功能。

手套箱系統集成

SENTECH ALD系統與不同供應商的手套箱兼容。