Palas®的MFP過濾器測試臺已經在開發和質量控制的實際應用中在世界各地經過多次驗證。

MFP Nano plus 4000過濾介質試驗系統專門設計用于根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準精確地測定HEPA和ULPA過濾介質的分離效率。

本設備是一種現代且功能強大的納米顆粒測量設備，以U-SMPS形式，進行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數值分析：

使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計數器在原始氣體和清潔氣體中實時測量特定尺寸的分離效率。

MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實時測量具有以下特殊優勢：

•   通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時間減半。
•   結合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的最高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的最高計數率對應于稀釋系數為1：200。因此，不再需要常規的氣溶膠稀釋。

借助通用氣溶膠發生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。

測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調整程序，共同提供高度可靠的測量結果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統。可以在很短的時間內確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質量細節

1.使用UGF 2000產生多種氣溶膠，用于KCl/NaCl或DEHS。集成的Nafion干燥系統。通過質量流量控制器單獨調節產生的煙霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr-85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調節的離子流適用于不同的質量流量。混合空氣，可調節流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質量流量控制器實現監視和控制。

3.可移動的氣動過濾器支架，用于快速拆卸和裝載帶有集成式DEMC 2000（差動遷移分類器）的試驗臺。 U-SMPS包含的DEMC 2000（差分電遷移率分類器）對UGF 2000產生的多分散氣溶膠粒徑進行分類。在DEMC 2000的下游僅包含單分散顆粒。DEMC 2000自動調節相關粒徑控制單元。

4.使用UF-CPC 200進行高濃度原始氣體測量。為了測量原始氣體中的顆粒數，UF-CPC 200冷凝顆粒計數器在單計數模式下被用于計數高達2,000,000個顆粒/立方厘米的顆粒。這意味著在高濃度原始氣體測量中不需要稀釋系統。無需長時間或復雜地清潔系統。

5. 使用UF-CPC 50對低濃度進行清潔氣體數值分布測量
“全流量” UF-CPC 50，針對清潔氣體中的低顆粒濃度（單計數模式，最大10,000個顆粒/ cm3）進行了優化。
在UF-CPC的“全流量”顆粒測量中,對整個采樣體積流量進行了全面分析。這意味著在清潔氣體中低顆粒濃度下可以實現很高的計數率。

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數據。

將氣溶膠分布調整到MPPS范圍
通過適當調整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano + 4000中的相關MPPS范圍相匹配。

圖1：使用DEHS調節所需MPPS范圍的粒徑

圖2：在>=140 nm的MPPS范圍內的餾分分離效率比較。

•   清晰展示整個測量范圍內過濾介質的分離效率。
•   精確測定MPPS范圍。
•   最高的測量重現性和可重復性突顯分離效率的微小差異。
•   優化的氣溶膠應用，使每次分離效率測量的測量時間短至兩分鐘。
•   分離效率曲線的簡單比較，也可以計算平均值

自動化：

MFP Nano + 4000集成質量流量控制器，用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件進行自動監視和控制。

在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數據，例如過濾器的體積流量和壓差。

驗證原始氣體和清潔氣體中的采樣是否合格：在初始培訓過程中，將演示未經過濾的原始氣體和清潔氣體測量符合性驗證。

使用MFP Nano + 4000，可以在MPPS范圍內以及整個測量范圍內進行餾分分離效率測量。另外，在相關的流入速度下清楚地確定介質的相關壓力損失。

MFP Nano plus 4000過濾介質試驗系統優點：

應用：

•    在產品開發和生產監控中對過濾介質和小型迷你過濾器進行測試
•    試驗可行性根據DIN EN 1822-3 (HEPA / ULPA) 和ISO 29463-3
•    對其他范圍在約20nm到1μm的過濾介質進行分離效率測量

參數：