CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 北京盈思拓科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/11/18 10:14:52
- 訪問次數(shù) 181
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CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)可以滿足塊體、粉末、 薄膜等樣品真空(保護(hù)氣氛下)合成生長制備,廣泛適用于低維材料(0D/1D/2D)、磁性材料、熱電材料、能源材料、光電材料、半導(dǎo)體材料,金屬材料、超導(dǎo)材料等材料器件生長制備,已經(jīng)被眾多高校、科研院所和企業(yè)使用,成為眾多材料實(shí)驗(yàn)研發(fā)的儀器。
CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)特點(diǎn):
該系統(tǒng)由 CVT 和 CVD 組成,主要包括 CVT 高真空自動(dòng)熔封機(jī)、真空泵組、高溫輸運(yùn)和沉積生長管式爐、氣體流量控制等部分組成。其中 CVT 模塊由高真空熔封和雙溫區(qū)管式爐組成,主要用于材料樣品在石英試管中真空環(huán)境狀態(tài)下(或保護(hù)氣氛下)完成熔封封管;CVD 模塊采用雙溫區(qū)高精度管式爐,可通氣氛抽真空(選配),,主要用于 CVT、CVD、預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜等。