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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備>RIE-200C RIE等離子刻蝕設備

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RIE-200C RIE等離子刻蝕設備

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

RIE-200C是在擁有豐富交貨業績的CCP RIE系統 "RIE-10NR "的基礎上開發的量產型盒式裝載系統。該系統可對Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手,PLC控制全自動操作,高性能存儲工藝參數,實現了高產量。

2. 設備用途/原理

Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵清除有機污染物

3. 設備特點

大氣高速傳輸系統該系統配備了一個大氣盒室和一個大氣傳輸機器人,而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動加工,并且可以安裝在兩個盒式箱中。全自動操作通過觸摸屏可實現全自動操作,通過PLC控制可實現過程管理和數據記錄


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