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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐>FLOURIS 201系列 8英寸立式爐

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FLOURIS 201系列 8英寸立式爐

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐,高精度溫度場控制技術,可實現 1200℃ 內氧化退火工藝。

2. 設備用途/原理

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐高精度溫度場控制技術,可實現 1200℃ 內氧化退火工藝優良的顆粒控制技術優良的膜厚均勻性控制技術圖形化操作界面和群組管理系統

3. 設備特點

晶圓尺寸 8 英寸適用材料 硅、碳化硅適用工藝 高溫氧化、退火、常壓合金、Polyimide 固化適用域 科研、化合物半導體、集成電路。百科:半導體立式爐?的原理主要涉及到半導體材料的熱處理過程,這一過程在半導體制造中至關重要。立式爐的設計允許對半導體材料進行精確的溫度控制和氣氛管理,從而促進材料的特定化學反應,如外延生長等。

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氧化擴散設備


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