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VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設(shè)備。

2. 設(shè)備用途/原理

VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設(shè)備高溫度 2000℃,升溫速率可達(dá) 100℃/min石墨電阻加熱,工藝腔室潔凈自動(dòng)裝片,Cassette to CassetteSEMI S2/S6 認(rèn)證

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 4/6 英寸兼容適用材料 碳化硅、氮化鋁適用工藝 注入后激活、Ar 退火、Ar/H2 退火、溝槽平滑適用域 科研、化合物半導(dǎo)體百科:退火爐的原理?主要涉及通過控制加熱和冷卻過程中的溫度和時(shí)間,以改變半導(dǎo)體材料的性質(zhì)或結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)對材料的精確控制和優(yōu)化處理。這種設(shè)備通常被稱為RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火爐。RTP退火爐的關(guān)鍵特點(diǎn)包括快速升溫、保持溫度、冷卻階段以及氣體控制。

相關(guān)分類

氧化擴(kuò)散設(shè)備


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