日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導體等 TWC-302 特點介紹

光掩模的清潔化是提高產品成品率的必要條件！

本發明公開了一種光掩模，該光掩模是通過在玻璃等上形成用于半導體制造工藝的圖案而獲得的，

該光掩模的表面上附著有細小的灰塵等，該光掩模是通過在玻璃等上形成用于半導體制造工藝的圖案而獲得的。

需要先進的清潔技術，因為粘附的灰塵和污物影響圖案轉移，并在很大程度上影響產量。本裝置是藥液兼用的掩模清洗裝置。

附著在掩模上的抗蝕劑分為通常工藝附著的輕度污染、測試用途和長時間未清洗保管的使用履歷不清楚的掩模等所看到的頑固污染兩種。

通過使用適合污染程度的藥液,可以節約時間、勞力、經費,提高清洗效率。

日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導體等 TWC-302 規格參數

1用一臺設備快速完成工件的擦洗，漂洗和干燥。 

2用擦洗清洗專用刷子，不劃傷工件，可以進行精密清洗，沒有清洗不均勻。 

3因為是立式處理，所以設計時不會給工件帶來壓力。 

4小批量，多品種，適用于研發應用的基板清洗。 

5干燥，熱純水干燥。 

用途

光掩模:半導體，液晶，有機EL，彩色濾光片，薄膜器件，IC封裝，PWB，PCB，FPC等，板狀基板等可清洗。