VCD系列HMDS真空鍍膜機
- 公司名稱 上海喆圖科學儀器有限公司
- 品牌 GEMTOP/喆圖
- 型號
- 產地 上海市奉賢區
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/11/11 15:51:09
- 訪問次數 653
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生化培養箱/人工氣候培養箱/電熱恒溫培養箱/恒溫恒濕箱/光照培養箱/二氧化碳培養箱等/恒溫干燥箱/真空干燥箱/高溫烘箱等/箱式電阻爐/陶瓷纖維馬弗爐/高溫馬弗爐/管式爐/氣氛爐/試驗箱/搖床/振蕩器/水槽/水浴鍋等
產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 綜合 |
用途概述
VCD系列HMDS真空鍍膜機化學名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),HMDS真空鍍膜機又稱HMDS基片預處理系統,指需在低真空度下進行的鍍膜。喆圖HMDS真空鍍膜機對箱體內預處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數的控制,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,所有工藝都在密閉的環境中進行,沒有HMDS揮發,提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料,為基片在涂膠前改善表面活性,增加光刻膠與基底的粘附力的設備,也可用于晶片其它工藝的清洗,尤其在芯片研發和生產領域應用更加普及。
產品特點
u 采用PLC工控自動化系統,人機界面采用觸摸屏,具有可靠性高,操作智能方便VDM系列HMDS真空鍍膜機。
u PLC微電腦PID控制系統具有自動控溫、定時、超溫報警等,彩色觸摸屏顯示,控溫可靠;
u 智能化觸摸屏控制系統,可根據不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間;
u 采用鋼化玻璃觀察窗,監測方便,一體成型的硅橡膠門封,確保箱內密封性好;
u 外殼和加熱管均采用不銹鋼材質,內膽不銹鋼,無易燃易爆裝置,無發塵材料;
u 以蒸汽的形式涂布到晶片表面,液態涂布均勻,可一次處理4盒以上的晶片,節省藥液。
u 去水烘烤和增粘(疏水)處理一機完成無需轉移,有效規避HMDS泄露的風險VCD系列HMDS真空鍍膜機;
u HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,使真空箱密封性好,確保HMDS氣體不外漏;
u 多余的HMDS蒸汽(尾氣)由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道,確保安全以及環保。
HMDS預處理系統的必要性
將HMDS涂到晶片表面后,經HMDS真空鍍膜機加溫后可反應生成以硅氧烷為主體的化合物,
它可將硅片表面由親水變為疏水,起著耦合作用,可更好與光刻膠結合,保證涂膠工藝不影
響光刻效果和顯影。
HMDS本身是表面改性,不會涂在圓片表面,HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果。
HMDS處理后需要冷卻后涂膠,建議4小時內完成涂膠。
HMDS真空鍍膜機預處理程序
HMDS(六甲基二硅胺)是黃光區最毒的東西,HMDS真空鍍膜機預處理程序為:打開
真空泵抽真空,待腔內真空度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到一定低真
空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保
持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入
通過氮氣的HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,
使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,
完成整個作業過程。
技術參數:
型號 | VCM-90 | VCM-125 | VCM-210 |
電源電壓 | AC 220V 50Hz | ||
控制系統 | PLC控制 | ||
儀表控制 | 彩色觸摸屏 | ||
控溫范圍 | RT+10-250℃ | ||
溫度分辨率 | 0.1℃ | ||
溫度波動度 | ±0.5 | ||
真空度 | ≤133pa | ||
內膽尺寸 | 450*450*450 | 500*550*500 | 550*550*650 |
容積 | 90L | 125L | 210L |
真空泵 | 選配 | 選配 | 選配 |