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化工儀器網>產品展廳>常用儀表>電子儀表>電阻測試儀> EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統

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EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 杭州雷邁科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產地 德國
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/6/8 21:24:02
  • 訪問次數 401

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聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


杭州雷邁科技有限公司(Labmates Technology成立于2010公司致力于實驗室*科學儀器和工業專用設備的研發、銷售和技術服務,產品應用于新材料、電子、半導體、化工、光伏、玻璃等眾多行業及高等院校和科研機構。

 

公司主營產品包括鐵電材料測試儀、寬頻介電阻抗譜儀、薄膜壓電測試儀、3D輪廓儀、顯微CT、光譜分析儀、X射線衍射儀和分光光度儀等分析測試儀器和設備。我們關注科技發展趨勢和動態,與時俱進引進新興功能性材料的分析和表征整體解決方案,已與眾多高校及科研院所建立起技術交流和合作關系,以專業應用技術為優勢,以產品整體解決方案為己長,為用戶提供可靠的產品和有效的服務。

 

經過團隊每一個成員的持續努力和奮斗,公司不斷拓展業務范圍和知識的邊界,穩步發展。專業的銷售和技術服務工程師,結合*的產品和誠實守信的經營理念,贏得廣大客戶的認可。特別在不斷涌現的新材料和技術方面,我們緊跟步伐,不斷開拓,竭誠為廣大客戶提供優質的產品和服務!

 

我們的愿景是通過提供以科學為基礎的高品質、新技術的產品和服務,成為*實驗室的專業合作伙伴,此正是我們的英文名稱“Labmates”之寓意。我們真誠感謝客戶的支持,期待分享一個成功的未來。

 




分光測色儀,鐵電測試儀,光學輪廓儀,原子力顯微鏡,光譜儀,測配色系統等實驗室儀器和設備

產地類別 國產 類型 其他
應用領域 能源,電子,電氣

EddyCus®map C2C是一種全自動測量設備,用于晶圓襯底或外延片的全面積表征,以確保半導體行業的工藝可靠性和質量保證。EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統配備了兩個在傳輸模式下工作的非接觸式渦流傳感器。這允許非常詳細地顯示基底材料或導電涂層的均勻性。該系統能夠測量薄膜的薄層電阻或金屬膜厚度以及晶圓襯底的電阻率。

EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統


創新的浮動晶圓技術

在器件的開發過程中,重點是將系統與晶圓的接觸減少到最小,以免影響晶圓的完整性。因此,該設備幾乎非接觸式工作。晶圓基板或涂層的表面沒有被觸摸。僅選擇性地并且在晶圓的側表面上以很小的力進行接觸。請查看我們的EddyCus®地圖C2C視頻,了解處理過程。

EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統



高分辨率、全表面晶圓map

測量設備可對晶圓或涂層進行高分辨率的全區域成像,讓您深入了解表征晶圓的質量。根據設置和您的時間要求,可以想象幾十到數萬個測量點。

該軟件還提供了各種分析工具,如直方圖或各種線輪廓。要查看晶圓上的某個區域的具體細節,您可以使用選擇工具選擇相關位置,然后使用線輪廓或直方圖再次對其進行分析。



用于150毫米和200毫米晶圓的暗盒

EddyCus®map C2C有一個裝載裝置,可以裝載150毫米(6英寸)晶圓和200毫米(8英寸)晶圓的晶圓載體。晶片載體的容量為25個晶片。

EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統


自動晶圓搬運

對于晶片成像,晶片從暗盒/載體轉移到渦電流傳感器,然后放回暗盒。對于希望減少處理晶圓時間的制造企業來說,一個有用的工具是自動化晶圓處理。我們的自動化晶圓處理技術降低了勞動力成本,提高了加工精度,并降低了人為錯誤的可能性。晶片由系統精確測量、處理和運輸,從暗盒到測量站,再返回暗盒。通過這樣做,不再需要人為操作晶片,從而防止測量誤差和潛在的晶片損壞。

EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統



專用于寬帶隙材料,如SiCGaN

一種被稱為寬帶隙材料的半導體材料具有比典型半導體更寬的能帶隙。晶體管和其他集成電路是在半導體領域使用寬帶隙材料制成的。這些組件對半導體至關重要,因為它們提供了更高的功率效率和更快的切換時間。寬帶隙材料適用于高功率應用,因為它們也具有較大的擊穿電壓。它們能夠更好地承受輻射,這使它們非常適合用于太空應用。碳化硅、氮化鎵和金剛石是具有寬帶隙的材料的幾個例子。許多不同的應用,如電源、太陽能電池和激光二極管,都使用這些材料。


薄層電阻、層厚度和電阻率測量

EddyCus® map C2C能夠確定薄膜的薄層電阻和厚度以及晶片襯底的電阻。該設備具有大的測量范圍,這意味著幾乎所有可能的應用都可以通過該設備進行測量。


EddyCus map C2C全自動電阻率成像系統技術參數

Measurement technology

Non-contact eddy current sensor, Capacitive   or confocal sensor for TTV

Substrates

6 / 8 inch wafer

Cassettes

1

Edge effect correction / exclusion

2 – 10 mm (depending on size, range, setup   and requirements)

Sheet resistance range

0.0001 – 100 Ohm/sq < 1 – 3 % accuracy

100 – 100,000 Ohm/sq < 1 – 5 % accuracy

(6 decades with one sensor)

Total thickness measurement

10 – 100,000 μm (optional)

Thickness measurement of metal films (e.g.   Aluminum, Copper)

2 nm – 2 mm (in accordance with sheet   resistance)

Measurement patterns (line scan, mapping)

2 nm – 2 mm (in accordance with sheet   resistance)

Thickness measurement of metal films (e.g.   Aluminum, Copper)

Pitch 1 / 2 / 5 / 10 / 20 / 50 mm

Points 9 / 17 / 49 / 81 / 99 / 169 / 625 / .... / 10,000

Measurement time

Line scans in less then 1 second Multi point:   0.1 to 1 second per point

Safety variants

System protected by safety laser scanners

Closed system

Device dimensions (w/d/h)

785 mm x 1,170 mm x 666 mm / 30.91“ x 46.06“   x 26.22“

Available features

Resistivity, metal thickness, total thickness   variation sensor





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