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化工儀器網>產品展廳>行業專用儀器及設備>其它行業專用儀器>激光脈沖沉積(PLD)> PLD脈沖激光沉積系統(美國NBM)

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PLD脈沖激光沉積系統(美國NBM)

具體成交價以合同協議為準

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昱臣半導體技術(香港)有限公司是專業的半導體及微電子領域儀器設備供應商,昱臣半導體技術(香港)有限公司所代理的儀器設備廣泛用于高校、研究所、半導體企業。

昱臣半導體技術(香港)有限公司目前代理的主要產品包括:

- 霍爾效應測試儀(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火爐(RTP);

- 回流焊爐,真空燒結爐(Reflow Solder System);

- 探針臺(Probe Station),低溫探針臺(Cryogenic Probe Station);

- 貼片機(Die Bonder),劃片機(Scriber),球焊機/鍥焊機(Wire Bonder);

- 原子層沉積系統(ALD),等離子增強原子層沉積設備(PEALD);

- 磁控濺射鍍膜機(Sputter),電子束蒸發鍍膜機(E-beam Evaporator),熱蒸發鍍膜機(Thermal Evaporator),脈沖激光沉積系統(PLD) ;

- 低壓化學氣相沉積系統(LPCVD),等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD),快速熱化學氣相沉積系統(RTCVD);

- 反應離子刻蝕機(RIE),ICP刻蝕機,等離子體刻蝕機;

- 致冷機/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler);

- 加熱臺、熱板、烤膠臺 (Hot Chuck / Hot Plate);

- 掃描開爾文探針系統(Kelvin Probe),光反射膜厚儀(Reflectometer);

- 高溫超導磁體(HTS Magnet),快速場循環核磁共振弛豫測試儀(FFC Reflexometer);






原子層沉積系統,快速退火爐,PECVD,刻蝕機

產地類別 進口 價格區間 400萬-500萬
應用領域 電子,綜合

脈沖激光沉積系統-PLD

型號:AP-PLD230

 

脈沖激光沉積系統(PLD)是將脈沖激光導入真空腔內照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態,然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成薄膜材料

 

我們PLD系統擁有性能價比用戶用最少的錢買到研究級高性能的純進口PLD系統。

技術參數配置:

1.數量6個,大小1-2英寸,被激光照射時可自動旋轉,靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉,工作環境壓力是300mtorr;

3.基板加熱電源,1200;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-7 Torr;

5.樣品傳輸:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;

7.閥門采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監控系統采用掃描型差分RHEED;

11.監控軟件系統:基板溫度的監控和設定,基板和靶的旋轉,靶的更換等;

12.各種電流導入及測溫端子;

13.其它各種構造:各種超高真空位移臺,磁力傳輸桿,超高真空法蘭,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等;

 




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