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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>電子束曝光機>DY-2000A 納米通用圖形發生器

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DY-2000A 納米通用圖形發生器

具體成交價以合同協議為準

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北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器，擁有一支經驗豐富、技術過硬的技術團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。 　　未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產品，同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系，致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作， 為中國的教育與科研事業在廣范圍、高層次上提供服務。　

納米圖形發生器，離子束刻蝕/反應離子刻蝕/感應耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機、去膠設備等

一種圖形發生器，用于電子束、離子

束等帶電粒子的曝光機，屬于曝光機的圖形

發生器硬件。本實用新型提供一種運算速度

快、接口簡單、功耗低、功能多樣的曝光機

用的圖形發生器，它以高速數字信號處理器

為核心，通過通用串行總線接口 和上位機實現通訊，該圖形發生器不僅可以滿足以三角形，矩形和梯形為基本曝光單元圖形的曝光格式，而且 增加了圓及圓環為具本曝光單元圖形，解決了集成光柵器件加工在速度度和精度上存在的缺陷。本實用新型由接口電路、雙端口存儲器電路、數學信號處理器電路、數模轉換電路、曝光標記檢測控制電路、標記檢測電路、最終曝光數據寄存器單元和束閘控制電路相互連接構。


曝光精度：100納米




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