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化工儀器網>產品展廳>配件耗材>光譜儀配件/附件>其它光譜儀配件>HC-XAFS-T 高溫高壓原位池

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HC-XAFS-T 高溫高壓原位池

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安徽吸收譜專注于X射線吸收發射譜技術和光譜儀器開發，為科研人員提供專業的吸收發射譜技術解決方案。公司由院士牽頭，基于同步輻射背景的博士在吸收發射譜領域10余年的技術研究積累，開發標準化的臺式X-射線吸收設備譜設備。

公司秉承“讓XAFS走進實驗室”的技術追求，鉆研吸收發射譜技術，發揚工匠精神和現代科學創新精神，持之以恒推進X射線技術和儀器設備研發。

 

 

X射線吸收/發射譜儀

供貨周期 現貨 應用領域 化工,能源,建材

型號HC-XAFS-T

高溫高壓原位池是一款為研究電極材料在熱催化實驗中的結構變化而設計。工作電極（WE）放置在透視窗口處，從而使X射線能夠穿透工作電極。

●此裝置主體為高強度鋼結構，可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓（配置小窗口可以實現更高壓力）；

●實現1℃精確控溫；

●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試；

●靈活控制階梯式升溫，并可通入各種反應氣氛，實時監測升溫條件下物相變化；

●光窗直徑：13mm; 光學窗口選用Be窗；樣品片為粉末狀圓片；

●配循環冷卻裝置，循環水溫控制在25oC。





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