簡(jiǎn)介：

透明晶圓缺陷掃描Lumina AT2可以在3分鐘內(nèi)完成300毫米晶圓的掃描，對(duì)于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有的勢(shì)也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。樣品300 x 300 mm。

廠商簡(jiǎn)介

Lumina Instruments，總部位于美國(guó)加利福尼亞州圣何塞，公司創(chuàng)始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測(cè)創(chuàng)新了更快速準(zhǔn)確的方法，因此創(chuàng)建了革命性的儀器品牌lumina.

技術(shù)創(chuàng)新

將樣片放入系統(tǒng)中，3~5分鐘即可完成掃描。

收集的數(shù)據(jù)將被分析，圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。

感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡（SEM）、橢偏儀、顯微鏡等上進(jìn)行進(jìn)一步分析。

將樣品放入系統(tǒng)

直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線運(yùn)動(dòng)，反射光和散射光由四個(gè)探測(cè)器捕獲。

四通道檢測(cè)

透明晶圓缺陷掃描LuminaAT2有四個(gè)檢測(cè)通道。它們同時(shí)運(yùn)行以生成四個(gè)獨(dú)立的圖像。每個(gè)通道有助于檢測(cè)和分類某些缺陷。

極化：薄膜缺陷、污漬

反射率：劃痕、內(nèi)應(yīng)力*、玻璃內(nèi)的條紋*

坡度：劃痕、凹坑、凸起、表面形貌

暗場(chǎng)：納米顆粒、包裹體

透明晶圓缺陷掃描Lumina AT2和 AT2透明晶圓缺陷掃描LuminaAuto：AT2采取的樣品的尺寸為450mm，AT2-Auto采取樣品的尺寸為200mm。光斑的大小在都在60μm也可以選擇30或10μm；靈敏度在300nm理想；掃描時(shí)間在40/50/120s。