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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法腐蝕/刻蝕設備>M+100-E 濕法腐蝕機

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M+100-E 濕法腐蝕機

參考價2000000.00
具體成交價以合同協議為準
規格
2002000000.00元1 件可售

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經營范圍一般項目:半導體器件專用設備制造半導體器件專用設備銷售:電工


機械專用設備制造:電子元器件制造:電子專用設備制造:集成電路芯片及產品制造:半導體分立器件制造,技術服務,技術開發,技術咨詢,技術交流、技術轉讓、技術推廣:電力電子元器件制造:機械零件、零部件加工:實驗分析儀器制造;數控機床制造;配電開關控制設備制造;機械電氣設備制造;工業自動控制系統裝置制造;金屬加工機械制遭;電工儀器儀表銷售;機械電氣設備銷售;自然科學研究和試驗發展:實驗分析儀器銷售;智能控制系統集成;五金產品零售:儀器儀表制造1儀器儀表鑰售1金屬材料銷售;計算機軟硬件及輔助設備零售:高品質合成橡膠銷售;信息咨詢服務(不含許可類信息咨詢服務)專用設備制造(不含許可類專業設備制造),電子產品銷售,札儀服務:生態環境監測及檢測儀器僅表銷售;機械設備銷售;軟件開發:信息技術咨詢服務;機根設備租賃:五金產品批發:化工產品銷售(不含許可類化工產品),橡膠制品鑰售;橡膠制品制造;專用設備修理,電氣設備修理,通用設備修理:翻澤服務;進出口代理,技術進出口,貿易經紀(賒依法領經批準的項目外,憑營業執照依法自主開展經營活動)。


勻膠機、顯影劑

主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴散前、CMP后、氧化前及光刻后等關鍵工藝的清洗

型號:M+-E150


主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石、塑


主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴散前、CMP后、氧化前及光刻后等關鍵工藝的清洗

型號:M+-E150


主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石、塑


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