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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機> VTC-300USS超聲霧化旋轉涂膜機

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VTC-300USS超聲霧化旋轉涂膜機

具體成交價以合同協議為準

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發企業,專注于科研領域,助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,材料科學,質譜儀,電化學,電池,催化


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產品簡介: VTC-300USS 超聲霧化旋轉涂膜機,噴膠機可以精 確控制溶液化學計量比、霧粒噴出速度、霧 粒大小等參數。VTC-300USS 超聲霧化旋轉涂膜機,噴膠機采用步進電機和微處理器控制容積泵精確輸送溶 液(溶液可以選擇被加熱或不被加熱 ;霧化器被固定在可擺動的支撐臂上, 從而確保涂層的均勻性,  過超聲波霧化器噴出的霧狀顆粒在基片上沉積作用, 可以制備厚度較薄的微納米涂層; VTC-300USS 超聲 霧化旋轉涂膜機,噴膠機可吸附的基片直徑可長達 12"300mm),同時可控制基底溫度使薄膜快速烘干(選 擇可加熱襯底的烘烤燈),以滿足實驗需要。


產品名稱

VTC-300USS 超聲霧化旋轉涂膜機,噴膠機

產品型號

VTC-300USS

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。

1、水:不需要

2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:不需要

4、工作臺: 占地面積 2m2 以上

5、通風裝置:需要

主要特點

噴霧熱解制膜法img2,是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上img3,然后在基底上得到想得到的物質結構。

此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物, 而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史。

現在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應用。

技術參數

1、輸入電源: 208V-240V 50Hz/60Hz


2、旋轉涂膜模塊


基片直徑 200mm ,轉速可高達 5000rpm;基片直徑 300mm ,轉速可高達 3000rpm。





img4

img5img6img7

3、超聲霧化模塊及使用液體要求


img8

img9

img10

顆粒大?。?/span>  10um-20um



流量大?。?/span>

0.6pl~4ml/min

固體含量:

 10%


粘度大小:   100cPs


4、注液系統


本司提供多種形式的供液系統(單路、多路、加熱等)

img11


img12

注液速度: 0.1mm/min-45mm/min


注射器行程設置范圍: 0.001mm-120mm

產品規格






img13

圖片僅供參考

標準配件

旋轉機構 1 套;超聲霧化電源+霧化噴頭 1 套; 單路供液系統 1 套; 無油泵 1 

可選配件

多路(可加熱)供液系統,烘干裝置等






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