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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機> 小型粉末PVD包覆系統(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW

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小型粉末PVD包覆系統(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發企業,專注于科研領域,助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,材料科學,質譜儀,電化學,電池,催化




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產品詳細介紹:   小型粉末 PVD 包覆系統 VTC-16PW 是一款小型粉末包覆系統,主要有 2 英寸磁控濺射頭 和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾,通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁 控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。




產品型號

小型粉末 PVD 包覆系統 VTC-16PW

產品特點

1、可對粉體材料進行表面包覆:采用磁控濺射,濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾, 達到粉體表面均勻包覆


2、設備小巧可在手套箱內使用,可處理樣敏感性材料

技術參數

1、輸入電壓:  220 VAC 50/60Hz

2、電源輸出:1600 VDC 250 W

3、電流:  150 mA .

4、濺射頭:  2 英寸角度可調節濺射頭

5、振動樣品臺:

樣品臺振動頻率可調節:  6-33Hz

樣品臺直徑為 50mm

建議樣品量: < 500 mg

建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔體尺寸:  165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度:

①1.0E-2 Torr (采用機械泵),  可濺射 Au, Ag, Pt, Cu, Mo 等靶

  1.0E-5 Torr  (采用分子泵  可濺射 Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn 等易氧化金屬靶真空 度可達到< 4.0E-6 Torr(分子泵系統抽時間 12 小時,腔體進行烘烤)

7、  CE 認證




產品規格

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注意事項

警告:

1、濺射頭與高壓電源相連接,操作時必須佩帶防護手套                                             2、濺射前必須確保靶材,濺射頭,基片和樣品臺清潔,需要用砂紙和乙醇來清洗,  Al 或是 Ni 靶每次使用時都必須清洗和處理

注意:粉末樣品必須干燥和分散




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