小型粉末PVD包覆系統(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW
- 公司名稱 北京鴻瑞正達科技有限公司
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- 型號
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- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/3/7 22:58:36
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產品詳細介紹: 小型粉末 PVD 包覆系統 VTC-16PW 是一款小型粉末包覆系統,主要有 2 英寸磁控濺射頭 和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾,通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁 控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。
產品型號 | 小型粉末 PVD 包覆系統 VTC-16PW |
產品特點 | 1、可對粉體材料進行表面包覆:采用磁控濺射,濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾, 達到粉體表面均勻包覆 |
2、設備小巧可在手套箱內使用,可處理樣敏感性材料 | |
技術參數 | 1、輸入電壓: 220 VAC 50/60Hz 2、電源輸出:1600 VDC 250 W 3、電流: 150 mA . 4、濺射頭: 2 英寸角度可調節濺射頭 5、振動樣品臺: 樣品臺振動頻率可調節: 6-33Hz 樣品臺直徑為 50mm 建議樣品量: < 500 mg 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔體尺寸: 165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度: ①1.0E-2 Torr (采用機械泵), 可濺射 Au, Ag, Pt, Cu, Mo 等靶 ② 1.0E-5 Torr (采用分子泵) , 可濺射 Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn 等易氧化金屬靶真空 度可達到< 4.0E-6 Torr(分子泵系統抽時間 12 小時,腔體進行烘烤) 7、 CE 認證 |
產品規格 | |
注意事項 | 警告: 1、濺射頭與高壓電源相連接,操作時必須佩帶防護手套 2、濺射前必須確保靶材,濺射頭,基片和樣品臺清潔,需要用砂紙和乙醇來清洗, Al 或是 Ni 靶每次使用時都必須清洗和處理 注意:粉末樣品必須干燥和分散 |