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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備> ICP等離子刻蝕機

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ICP等離子刻蝕機

參考價 88000
訂貨量 ≥1
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上海沛沅儀器是一家集等離子體技術設計、制造、產品開發、銷售與服務于一體的技術型企業,公司致力于提供專業的等離子表面處理系統,比如等離子清洗機,等離子去膠機,等離子刻蝕機,實驗室等離子處理機等,向用戶提供國內等離子表面處理設備和優質專業的服務。

公司技術團隊67%以上具備碩士或碩士以上學位,公司由長期從事等離子體應用技術研究開發、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產業化專家聯合創建,提供一系列等離子體表面處理系統、等離子體刻蝕系統、常壓等離子清洗設備等,并與中科院上海應用物理研究所,復旦大學,中國科技大學,上??萍即髮W,上海交通大學等建立了密切的技術合作交流關系。

 

公司的愿景是成為等離子體應用領域的優質供應企業,用科研的沉淀和應用的創新,為中國的制造業崛起和化戰略貢獻一份力量。

 

 

 

 

等離子清洗機,真空等離子清洗機,等離子去膠機,等離子表面處理機,等離子刻蝕機,實驗室等離子清洗機,小型等離子清洗機,大氣等離子清洗機,等離子鍍膜機

類別 ICP刻蝕 顏色 白色
電源 220V
  ICP干法刻蝕是一種常見的微納加工技術,其原理是利用高頻電場將氣體離子化,使其形成等離子體,然后將等離子體引入反應室中,利用反應室內的化學反應對材料進行腐蝕或沉積。 在ICP干法刻蝕中,高頻電場的作用是將氣體分子電離,形成電子和離子。離子在電場的作用下加速運動,并與反應室內的氣體分子發生碰撞,進而形成等離子體。等離子體具有高溫、高能量的特性,可以對材料進行高效率的加工。 ICP干法刻蝕的特點是能夠實現高精度、高速度和高均勻度的刻蝕,且對材料的損傷較小,常用于微電子器件制造、光學器件加工等域。但需要注意的是,在使用ICP干法刻蝕時,應選擇合適的氣體、功率和反應室溫度等參數,以避免對材料造成負面影響。
 
  ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統。作為一個多功能系統,它通過優化的系統設計與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小,專業的機械設計與優化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全,且工藝穩定重復性很好。
 
  ICP等離子刻蝕機WINETCH產品特點
 
  ● 4/6/8英寸兼容,單片晶圓真空傳輸系統
 
  ● 低成本高可靠,適合研發及小規模生產
 
  ● 設備結構簡單,外形小
 
  ● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕
 
  ● 優異的刻蝕均勻性,刻蝕速率快
 
  ●滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統
 
  ● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
 
  ● 斷面輪廓可控性高,刻蝕表面平整光滑
 
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         ICP等離子刻蝕機技術參數:
 
  晶圓尺寸:4/6/8英寸兼容
 
  適用工藝:等離子體刻蝕
 
  適用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.
 
  適用領域:化合物半導體,MEMS、功率器件、科研等領域
 

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