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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>涂膠顯影設備>M+100CD 勻膠機

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M+100CD 勻膠機

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半導體設備、半導體材料、電子產品、機械零配件、儀器儀表、專用機床、力學、測量檢測設備、化學拋光設備的技術開發及服務;薄膜電路生產;光纖照明設備、環境試驗設備的生產及銷售.(依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動)

勻膠機,顯影劑,噴膠機

    IC半導體、LED、Bumping、化合物、光通訊、OLED、MEMS等 Wafer Size 晶圓尺寸:Φ2"-8"
    Spin motor主軸轉速:0-8000rpm±1rpm
   Uniformation膜厚均勻性:<1%(參考AZ1500)
  Temperation溫度均勻性:0-250℃±0.5℃                                                      
    MTBF:≥1500小時Uptime:95%                                                                                        
二、涂膠單元 Coater Uint:     膠盤:Teflon,Delrin
   可編程移動式滴膠
   可配3路噴嘴
   正/背面去邊清洗
   主軸電機:伺服電機(高速:8000rpm)
   勻膠溫度控制(選配)
   噴嘴預清洗(選配)
   環境溫濕度控制(選配)
三、顯影單元 Developer:                                                                
     膠盤:Delrin
   4路噴液(2 spray,1 streaam, 1 Dl water)
   主軸電機:伺服電機(高速:8000rpm)
   背面清洗
   滴液方式:膠泵或壓力罐
   液體溫度控制(選配)
   排風控制
   體積尺寸:1400mm(W)×1400mm(D)×1700mm(H)


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