產地類別 | 國產 |
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光刻膠剝離液 光刻膠去膠液 抗蝕劑剝離液 光刻膠清洗劑
產品概述:
光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)PL311是針對半導體晶圓芯片制造過程而設計,光刻膠層需要在制造過程結束時,從襯底表面去除。本品采用極性非質子有機溶劑、還原劑、阻蝕劑等成分,科學復配而成,水溶性好,表面張力低,清洗能力強,可以迅速去除光刻膠殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污,不引入任何污染物,潔凈度高,對各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線無腐蝕,無毒無刺激性氣味,環保安全,對人體與環境友好。
適用范圍:
光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)PL311用于去除正型光刻膠,以及用于負片的返工處理。適用于半導體晶圓表面、LCD/OLED加工的光刻膠和CMOS圖像傳感器等返修芯片的紅膠,以及電子設備、電子儀器的清洗。
產品特點:
1.去膠速度快,去膠能力強,可迅速去除晶圓表面和襯底金屬表面的光刻膠等殘留物;
2. 光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)去除金屬離子污染物、粉塵顆粒物,無殘留;
3.材料相容性好,對襯底材料及金屬布線無腐蝕性;
4.無毒無刺激,不燃不爆,不含ODS(臭氧層破壞物質),符合歐盟RoHS標準。
產品參數:
外觀(原液) :無色透明液體
比重 :1.06±0.01
PH值 :10—11
氣味 :無
使用方法:
光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)PL311根據不同要求原液或稀釋使用,稀釋比例不超過20倍;使用前請咨詢我司技術人員!
溫度:50-60℃
時間:5-10分鐘
注意:清洗設備建議選擇高頻超聲波清洗,避免因頻率過高震傷產品。
注意事項:
如不慎進入眼中應立即用清水沖洗,人工清洗時,請配戴防護手套;
儲存于陰涼干燥處,避免陽光直射
包裝規格:
1加侖/桶