瑞士CCU-010 HV高真空離子濺射鍍碳儀

緊湊型、模塊化和智能化
CCU-010 HV為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用du特的插入式設(shè)計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。

瑞士CCU-010 HV高真空離子濺射鍍碳儀 特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
?高性能離子濺射、蒸發(fā)鍍碳和可選的等離子處理
?專有的自動碳源卷送設(shè)計–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)
?du特的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊
?yi流的真空性能和快速抽真空
?結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修
?雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
?主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運(yùn)行時間

巧妙的真空設(shè)計
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了zui 高級的SEM、TEM和薄膜應(yīng)用。特別選擇和設(shè)計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。

LC-006金屬大腔室
可選的LC-006是當(dāng)前玻璃腔室的擴(kuò)大版，為鋁制結(jié)構(gòu)。這個金屬腔室可容納6"晶圓樣品或其它大尺寸樣品，而且消除了對內(nèi)爆防護(hù)的需求。在CCU-010 HV上選配LC-006, 無需任何修改就可實現(xiàn)更大樣品和晶圓的鍍膜。

SP-010 & SP-011濺射模塊
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 HV鍍膜主體單元，均可立即使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能，連續(xù)噴涂時間長，非常適合需要較厚膜的應(yīng)用。 可選多種濺射靶材，適合SEM、FIB和各種薄膜應(yīng)用。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優(yōu)化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具，也適合于極細(xì)顆粒尺寸鍍膜。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對那些比常規(guī)EM應(yīng)用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應(yīng)用時，推薦使用該濺射頭。SP-011濺射頭與CCU-010 HV主體單元相結(jié)合，可滿足諸如DLC，ITO或鐵磁濺射材料鍍膜等具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。（二選一作為標(biāo)配）

CT-010碳蒸發(fā)模塊
緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新biao桿。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體單元后，即可立即使用，適合SEM、TEM和任何需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場合。CT-010使用歐洲專有的、du特且技術(shù)ling xian的碳繩卷軸系統(tǒng)，可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜，而無需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會自動前進(jìn)，用過的碳繩會掉落到方便的收集盤中。除了易于使用外，自動卷軸系統(tǒng)還允許在一個鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應(yīng)用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動啟動擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。

GD-010輝光放電模塊
可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)可快速安裝，通過空氣、氬氣或其它專用氣體進(jìn)行表面處理，例如，使碳膜親水。本機(jī)可按順序進(jìn)行碳鍍膜和輝光放電處理，無需“破”真空或更換處理頭，極大地簡化了操作過程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品臺兼容。

HS-010真空儲存箱
可選的HS-010真空儲存箱可在真空條件下存放備用鍍膜頭、備用行星臺或旋轉(zhuǎn)臺、所有濺射靶材和碳附件，使它們處于清潔狀態(tài)。通過集成的真空管路與鍍膜主體單元連接，利用CCU-010抽真空系統(tǒng)對儲物箱抽真空。可選地，用戶也可用外接真空泵替代。舒適的手動鎖定裝置和放氣閥允許對儲物箱進(jìn)行獨(dú)立的抽真空和放氣控制。額外的標(biāo)準(zhǔn)真空腔室可有效地避免蒸碳和濺射金屬之間的交叉污染。

ET-010等離子刻蝕單元
在對樣品進(jìn)行鍍膜之前或鍍膜之后，可選該單元對樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜前清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍碳后進(jìn)行等離子處理，從而對碳膜表面進(jìn)行改性。

Coating-LAB軟件
使用可選的基于PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內(nèi)的處理數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚，鍍膜速率為實時曲線。便捷的軟件升級和參數(shù)設(shè)置讓此智能工具更為完mei。

RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件（可選）
◎基于window的遠(yuǎn)程控制軟件
◎創(chuàng)建和調(diào)用配方
◎?qū)崟r圖表，包含導(dǎo)出功能（Excel、png等）
◎自動連接到設(shè)備

可選多種樣品臺
CCU-010提供了一個直徑80mm的樣品臺，該樣品臺插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺支架上。可選其它專用的旋轉(zhuǎn)樣品臺、行星臺、載玻片樣品臺等。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜系統(tǒng)專為滿足電鏡樣品制備領(lǐng)域及材料科學(xué)薄膜應(yīng)用的zui高要求而設(shè)計。CCU-010 HV 高真空濺射和鍍碳儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設(shè)計，可在超高分辨率應(yīng)用中提供出色的結(jié)果。該設(shè)備是全自動抽真空和全自動操作，采用TFT 觸摸屏操控，配方可編程，保證結(jié)果可重復(fù)。CCU-010 HV 標(biāo)配抽真空系統(tǒng)完quan無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內(nèi)部，外部沒有笨重的旋轉(zhuǎn)泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無油抽真空系統(tǒng)可將鍍層中的污染或缺陷降至zui低。關(guān)閉時，該設(shè)備可以保持在真空下，這有效地保護(hù)了系統(tǒng)免受灰塵和濕氣的影響，并為高質(zhì)量的鍍層創(chuàng)造了快速抽真空和有利的真空條件。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本：CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 HV高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 HV高真空手套箱專用鍍膜儀。

CCU-010 HV 系列高真空鍍膜儀的主要亮點(diǎn)在于實現(xiàn)了兩大技術(shù)性突破：一是du家采用自動碳纖維卷繞系統(tǒng)，在每次蒸發(fā)后自動推進(jìn)碳纖維，在不破真空更換碳源的情況下可進(jìn)行數(shù)十次的鍍碳運(yùn)行，比市場上常見的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節(jié)省大量的人工操作，既適用于大多數(shù)常規(guī)鍍碳應(yīng)用，也適用于超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應(yīng)用。二是將“鍍膜前對樣品表面進(jìn)行等離子清潔（增加附著力）+鍍膜+鍍膜后對膜層表面進(jìn)行改性（比如：親水化）或刻蝕”全流程集于同一臺儀器同一次真空下完成，大大提高了鍍膜質(zhì)量，拓寬了應(yīng)用范圍。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品質(zhì)”的代名詞；瑞士原廠貨源，覃思本地服務(wù)，客戶買得放心、用得省心！