批量式電漿輔助氣相沉積設備

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化學氣相沉積化學氣相沉積設備價格批量式電漿沉積系統供應輔助氣相沉積設備

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊，專精的服務，提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理，為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向，用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流，打消顧慮，彼此協作，為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備，其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念，以人為本的企業文化，我們始終為用戶提供專業的服務！

合作丨共贏，選擇我們，選擇未來！

展開

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域	環保,化工,電子

批量式電漿輔助氣相沉積設備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

此系統為專對派瑞林(Parylene)所設計，其腔體內部具有公自轉知特性，並批量式生產。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。

批量式電漿輔助氣相沉積設備參數：

應用領域	腔體
醫療和商業產品的耐磨薄膜封裝、絕緣防刮顯示屏	客製化的腔體尺寸，取決於基板尺寸和其應用通過使用水冷、水熱系統或加熱器來控制腔體溫度
配置和優點	選件
客製化的基板多載片優異的薄膜均勻性小於+-3% 精準流量控制器，氣體分佈高度均勻使用電容式藕荷電漿(CCP)