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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備>RIE-10NR 日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備

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RIE-10NR 日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備

參考價10000000-20000000/件
具體成交價以合同協議為準

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似空科學儀器(上海)有限公司是一家儀器設備的經銷商。我們致力于為中國制造業和研發機構提供高精度、符合人體工學設計的儀器設備。我們也夢想有朝一日,能夠充分掌握市場需求,深刻理解儀器設備的技術原理,聚集一批有激情、有理想、有技術的人,為中國的制造業升級以及中國科研走向世界,提供自有知識產權的先進儀器設備!
儀器設備發展的是探測手段和傳感器不對被測目標產生任何干擾,企業管理的是一切以市場為核心,不以自我的意愿抗拒市場的趨勢,代替客戶的喜好,于是我們取名“似空”,希望以忘我的精神服務客戶。

 

失效分析,芯片開封,表面觀測,金相研磨,光學及視頻顯微鏡,超聲波檢測,X射線檢測,激光微納加工等

晶圓尺寸 8英寸 尺寸 500 mm(寬)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)
反應室尺寸 φ340mm

 

反應離子刻蝕機

SAMCO RIE-10NR

 





簡介:

RIE-10NR是一種新型的低成本、
高性能、全自動反應離子刻蝕系統,
能夠滿足非腐蝕性氣體化學最KE刻
的工藝要求。
計算機化觸摸屏為工藝配方編
程和存儲提供了用戶友好的界面。
該系統可以實現精確的側壁輪
廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。
憑借其圓滑、緊湊的設計,
RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
 
應用:
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的
腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。




 

 

 

 

 

 

 

主要功能和優點:
1、加工至?220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1)。
2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴格的工藝要求全自動“一鍵式”操作。
3、自動壓力控制,允許獨立于氣流干泵和系統布局的過程壓力精確控制,便于維護。
4、于Windows的用戶界面,豐富的配方和內置的數據記錄功能,是一個可靠和持久的系統,全球安裝了400多個系統。
 
 
 
主要參數規格:
基板
220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1)
負載
開放式
上下電極
?240 mm
射頻功率
300瓦@13.56兆赫,自動匹配(500瓦為選項)
可切換射頻供電電極(陽極/陰極模式)為選項
氣體管道
內部2條MFC控制的氣體管道(最多6條)
干泵(500升/分鐘)
操作系統
觸摸屏操作(可選擇基于Windows的用戶界面)、配方管理
端點檢測
光學發射光譜(OES)作為一種選擇
尺寸
500 mm(寬)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)

 

 
 
 
             
 
 
 



 


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