光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。

按照曝光波長分類，光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠，其適用的光刻極限分辨率不同。通常來說，在使用工藝方法一致的情況下，波長越短，加工分辨率越佳。

可測量不同波長下的折射率與阿貝數值，數字顯示，準確清晰，活動光源，可定做濾光片，對薄膜的XYZ軸有特殊方法檢測！

ATAGO愛拓半導體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4（最大1,100nm），可在波長450至1,100nm范圍內，使用不同的波長測量折射率（nD）和阿貝數值。測量結果通過調整分界線至十字交叉點確定，測量結果在LCD顯示屏以數字形式顯示，與傳統型阿貝折射儀相比，讀數更快速更清晰。尤其適合高精度測量眼鏡片等聚酯材質的折射率。

ATAGO愛拓半導體光刻膠折射率阿貝折光儀，廣泛用于測量：濃縮果汁、香精香料、工業溶液、化工材料、光學玻璃、塑料薄膜、各種新型材料及某些固體物質的折射率（nD）及Brix值。