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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>掩模版和中間掩模版制造設備>掩模光刻膠處理及清洗設備>CPC15/35/80/120/150 CIF 生產型等離子清洗機

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CPC15/35/80/120/150 CIF 生產型等離子清洗機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

一、CIF 生產型等離子清洗機 產品介紹

CIF推出的CPC系列生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數生產場景。適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應用,設備可在嚴苛環境下穩定運行,產品性能穩定,樣品處理重復性、一致性好。

二、CIF 生產型等離子清洗機 產品特點

1. 7寸彩色觸摸屏互動操作界面,圖形化用戶操作界面顯示,自動監測工藝參數狀態,0~99個配方程序,可存儲、輸出、追溯工藝數據,機器運行、停止提示。

2. PLC工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

3. 采用質量流量計,氣體流量控制更準確。標配雙路氣體輸送系統,可選多氣路氣體輸送系統,氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣體等氣體。

4. 采用花灑式多孔進氣方式,改變傳統等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

5. HEPA高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

6. 316不銹鋼真空倉,潔凈無污染。

7. 全真空管路系統采用316不銹鋼材質。

8. 處理高效均勻,效率高,工藝重復性好。

9. 合理的結構設計,設備占用空間小。

10. 可處理各種材質、形狀、尺寸樣品。

11. 樣品處理溫度低,無熱損傷和熱氧化。

12. 使用成本低、耗損小。

13. 產品性能穩定,安裝與維護,簡便方便。

14. 安全保護,倉門打開,自動關閉電源。

三、技術參數

型號

CPC15

CPC35

CPC80

CPC120

CPC150

艙體尺寸

W240xH240xD260mm

W320xH320xD350mm

W420xH400xD500mm

W500xH500xD450mm

W500xH500xD600mm

艙體容積

15L

35L

80L

120L

150L

有效尺寸

W210xD245mm

W300xD335mm

W400xD490mm

W500xxD440mm

W500xxD590mm

電極分布

2層

3-4層

6層

8-10層

10-15層

射頻電源

13.56MHz, 0-300W

13.56MHz, 0-300W

13.56MHz,0-600W

13.56MHz,0-1000W

13.56MHz,0-1000W

匹配器

自動匹配器

激發方式

電容式

電 流

1.2A

時間設定

1-99分59秒

氣體穩定時間

1分鐘

真空度

100pa以內

控制系統

7寸PLC觸摸屏控制

工藝氣體

2氣路 MFC(可選裝3路)

真空泵

抽速約8m3/h

抽速16m3/h

抽速40m3/h

抽速60m3/h

抽速約60m3/h

電 源

AC220V 50-60Hz

AC220V 50-60Hz

AC380V 50-60Hz

AC380V 50-60Hz

AC380V 50-60Hz

備注:根據用戶要求,可選中頻電源40KHz,功率300-2000W。









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